[发明专利]控制装置及控制方法、曝光装置及曝光方法、元件制造方法、数据生成方法和计算机可读介质

说明书

一种控制装置及控制方法、曝光装置及曝光方法、元件制造方法、数据生成方法和程序产品。控制装置对空间光调制器进行控制，空间光调制器被用于具备将图案像投影至物体的投影光学系统的曝光装置中，且具备各自的状态可变更的多个光学部件，其中将第一区域的光学部件的状态设定为第一分布，以使来自位于所述第一区域的光学部件的光的一部分入射至投影光学系统，第一分布指处于第一状态的第一光学部件和处于第二状态的第二光学部件以第一分布图案而分布，且将第二区域的光学部件的状态设定为第二分布，以减轻因入射至投影光学系统的来自第一区域的光引起的图案像的劣化，第二分布指第一光学部件和第二光学部件以第二分布图案而分布。

技术领域

本发明涉及一种用于对曝光装置中所用的空间光调制器进行控制的控制装置及控制方法、使用所述控制方法的曝光装置及曝光方法、使用所述曝光方法的元件(device)制造方法、生成用于对曝光装置中所用的空间光调制器进行控制的控制数据(data)的数据生成方法、和用于执行所述控制方法或数据生成方法的程序(program)的技术领域。

背景技术

提出有一种曝光装置，其具备空间光调制器(Spatial Light Modulator，SLM)以取代掩模(mask)，所述空间光调制器具有各自可对入射的光进行反射的多个光学部件(例如微型镜(mirror))(参照专利文献1)。进而，也提出有一种具备空间光调制器的曝光装置，所述空间光调制器具有各自可使入射的光透射的多个光学部件(例如液晶元件)(参照专利文献1)。对于经由所述空间光调制器的光所形成的空间像的强度品质(例如强度分布的品质)，存有改善的余地。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2006/083685号说明书

发明内容

第一形态是一种控制装置，其对空间光调制器进行控制，所述空间光调制器被用于具备将图案像投影至物体的投影光学系统的曝光装置中，且具备各自的状态可变更的多个光学部件，其中，将位于第一区域的所述多个光学部件的状态设定为第一分布，以使来自位于所述第一区域的所述多个光学部件的光的一部分入射至所述投影光学系统，所述第一分布是指，处于第一状态的第一光学部件、和处于与所述第一状态不同的第二状态的第二光学部件以第一分布图案而分布，将位于与所述第一区域邻接的第二区域的所述多个光学部件的状态设定为第二分布，以减轻因入射至所述投影光学系统的来自所述第一区域的光引起的所述图案像的劣化，所述第二分布是指，所述第一光学部件和所述第二光学部件以与所述第一分布图案不同的第二分布图案而分布。

第二形态是一种控制装置，其对曝光装置所具备的空间光调制器进行控制，所述曝光装置是将来自所述空间光调制器的光经由投影光学系统而投影至物体，从而将图案像投影至所述物体上，所述空间光调制器具备各自的状态可变更的多个光学部件，其中，对所述多个光学部件的状态进行设定，以减轻从所述空间光调制器朝向所述投影光学系统的光瞳外的光对所述图案像的投影造成的影响。

第三形态是一种控制装置，其对空间光调制器进行控制，所述空间光调制器被用于将图案转印至物体的曝光装置中，且具备各自的状态可变更的多个光学部件，其中，将位于第一区域的所述多个光学部件的状态设定为第一分布，所述第一分布是指，处于第一状态的第一光学部件、和处于与所述第一状态不同的第二状态的第二光学部件以第一分布图案而分布，将位于与所述第一区域邻接的第二区域的所述多个光学部件的状态设定为第二分布，所述第二分布是指，所述第一光学部件和所述第二光学部件以与所述第一分布图案不同的第二分布图案而分布。

第四形态是一种控制装置，其对空间光调制器进行控制，所述空间光调制器具备各自的状态可变更的多个光学部件，其中，对位于第一区域内的多个光学部件的状态与位于第二区域内的多个光学部件的状态进行设定，以使从所述空间光调制器上的所述第一区域发出的第一衍射光、和从所述空间光调制器上的与所述第一区域不同的所述第二区域发出的第二衍射光彼此进行相消干涉。