[发明专利]控制装置及控制方法、曝光装置及曝光方法、元件制造方法、数据生成方法和计算机可读介质

权利要求书

1.一种控制装置，对空间光调制器进行控制，所述空间光调制器被用于包括将图案像投影至物体的投影光学系统的曝光装置中，且包括各自的状态能够变更的多个光学部件，其特征在于，

将位于第一区域的所述多个光学部件的状态设定为第一分布，以使来自位于所述第一区域的所述多个光学部件的光的一部分入射至所述投影光学系统，所述第一分布是指，处于第一状态的第一光学部件、和处于与所述第一状态不同的第二状态的第二光学部件以第一分布图案而分布，

将位于与所述第一区域邻接的第二区域的所述多个光学部件的状态设定为第二分布，以减轻因入射至所述投影光学系统的来自所述第一区域的光引起的所述图案像的劣化，所述第二分布是指，所述第一光学部件和所述第二光学部件以与所述第一分布图案不同的第二分布图案而分布。

2.根据权利要求1所述的控制装置，其特征在于，

所述第二分布图案是使所述第一分布图案反转的分布图案。

3.根据权利要求1或2所述的控制装置，其特征在于，

所述第一分布图案及所述第二分布图案分别是所述第一光学部件及所述第二光学部件分别沿着第一方向及与所述第一方向交叉的第二方向而交替地分布的分布图案，

所述第二区域沿着与所述第一方向及所述第二方向交叉的第三方向而与所述第一区域邻接。

4.根据权利要求1或2所述的控制装置，其特征在于，

所述第一分布图案及所述第二分布图案分别是所述第一光学部件及所述第二光学部件分别沿着第一方向及与所述第一方向交叉的第二方向而交替地分布的布图案，

所述第二区域沿着所述第一方向或所述第二方向而与所述第一区域邻接。

5.根据权利要求1或2所述的控制装置，其特征在于，

所述第一分布图案及所述第二分布图案分别是第一部件群和第二部件群沿着与第四方向交叉的第五方向而交替地分布的分布图案，所述第一部件群包含沿着所述第四方向排列的多个所述第一光学部件，所述第二部件群包含沿着所述第四方向排列的多个所述第二光学部件，

所述第二区域沿着所述第五方向而与所述第一区域邻接。

6.根据权利要求1或2所述的控制装置，其特征在于，

将所述空间光调制器的光调制面上的规定区域分割为多个分割区域，对分别位于所述多个分割区域内的多个光学部件的状态进行设定。

7.根据权利要求1或2所述的控制装置，其特征在于，

将所述空间光调制器的光调制面上的规定区域分割为多个分割区域，将所述多个分割区域中的一个分割区域设定为所述第一区域，将所述多个分割区域中的其他分割区域设定为所述第二区域。

8.根据权利要求6所述的控制装置，其特征在于，

所述规定区域包含所述第一光学部件及所述第二光学部件分别沿着第六方向及与所述第六方向交叉的第七方向而交替地分布的区域。

9.根据权利要求6所述的控制装置，其特征在于，

所述规定区域包含第三部件群和第四部件群沿着与第八方向交叉的第九方向而交替地分布的区域，所述第三部件群包含沿着所述第八方向排列的多个所述第一光学部件，所述第四部件群包含沿着所述第八方向排列的多个所述第二光学部件。

10.根据权利要求6所述的控制装置，其特征在于，

一边使所述分割区域的尺寸变小，一边重复将所述规定区域分割为所述多个分割区域的运行。

11.根据权利要求1或2所述的控制装置，其特征在于，

对所述多个光学部件的状态进行设定，以减轻从所述空间光调制器朝向所述投影光学系统的光瞳外的光对所述图案像的投影造成的影响。