[发明专利]监测电极基板的干燥状态的设备和方法有效
| 申请号: | 201880017214.6 | 申请日: | 2018-12-17 |
| 公开(公告)号: | CN110418956B | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
| 发明(设计)人: | 孙進永;辛武鎔;李泽秀;金哲佑;崔相勳 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
| 主分类号: | G01N21/25 | 分类号: | G01N21/25;H01M4/04 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 监测 电极 干燥 状态 设备 方法 | ||
1.一种监测在集流体上施加有电极浆料的电极基板的干燥状态的方法,所述方法包括:
将光照射到所述电极基板的表面上的步骤;
接收被所述电极基板的所述表面反射的光的步骤;和
分析接收的光的发光强度或光谱,以估算所述电极基板的干燥速率的步骤,
其中所述电极浆料包含参考材料,所述参考材料的反射特性根据干燥状态而变化,使得表面光泽度根据所述电极浆料的干燥的变化与所述电极浆料的固体含量的变化相似,
其中,当所述电极浆料达到特定范围内的干燥速率时,所述参考材料的反射特性具有比当所述电极浆料处于不同的范围内的干燥速率时反射特性变化更加急剧的区段。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述参考材料是石墨。
3.根据权利要求1所述的方法,其中照射到所述电极基板的所述表面上的光是具有可见光波段的光。
4.根据权利要求1所述的方法,其中,在预先获得表现出反射光根据所述电极基板的干燥状态的特性的参考数据的状态下,将接收的光的特性与所述参考数据进行比较,以估算所述干燥速率。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的方法,其中干燥所述电极基板的干燥装置配置成使得所述电极基板通过经过被施加热量的干燥室而被干燥,并且
基于估算的所述电极基板的干燥速率的数据来执行对所述干燥室的温度控制。
6.一种监测在集流体上施加有电极浆料的电极基板的干燥状态的设备,所述设备包括:
发光部,所述发光部将来自光源的光照射到所述电极基板的表面上;
光接收部,所述光接收部接收被所述电极基板的所述表面反射的光;和
计算装置,所述计算装置分析接收的光的发光强度或光谱,并且将分析的光的特性与预先获得的反射光的参考数据进行比较,以估算所述电极基板的干燥速率,
其中所述电极浆料包含参考材料,所述参考材料的反射特性根据干燥状态而变化,使得表面光泽度根据所述电极浆料的干燥的变化与所述电极浆料的固体含量的变化相似,
其中,当所述电极浆料达到特定范围内的干燥速率时,所述参考材料的反射特性具有比当所述电极浆料处于不同的范围内的干燥速率时反射特性变化更加急剧的区段。
7.根据权利要求6所述的设备,其中所述发光部和所述光接收部安装成一起内置于探针中,并且
所述探针设置成使得所述探针的一端与所述电极基板的所述表面间隔开预定距离。
8.根据权利要求7所述的设备,其中所述光接收部设置在所述探针内的中央,并且多个发光部沿所述光接收部的周边设置。
9.根据权利要求6所述的设备,其中从所述发光部照射的光是具有可见光波段的光。
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