[发明专利]耐划痕膜及其制造方法

权利要求书

1.一种耐划痕膜制品，其包括：

基材；和

布置在基材的表面上的膜，所述膜包含：

45原子%至50原子%的铝组成；

26原子%至46原子%的氮组成；和

12.7原子%至16.5原子%的氧浓度，其中，膜包括-200 MPa至200 MPa的残留应力，并且基材包括小于0.0005米的弓形。

2.如权利要求1所述的制品，其中，氧浓度是14原子%。

3. 如权利要求1所述的制品，其中，膜包括200 nm至3 μm的厚度。

4. 如权利要求1所述的制品，其中，膜包括10 nm至5 μm的厚度。

5. 如权利要求1所述的制品，其中，膜包括15 GPa或更大的硬度，以及膜在550 nm包括1.92至2.05的折射率。

6.如权利要求1所述的制品，其中，基材包括小于0.0002米的弓形。

7. 如权利要求1所述的制品，其中，残留应力是-25 MPa至0 MPa。

8.如权利要求1-2中任一项所述的制品，其中，膜包括单层材料。

9.如权利要求1-2中任一项所述的制品，其中，基材包括基于玻璃的材料。

10.如权利要求1-2中任一项所述的制品，其中，铝组成包含47原子%至50原子%。

11.一种耐划痕膜制品，其包括：

基材；和

布置在基材上的膜堆叠，所述膜堆叠包含：

第一层，其包括：

铝：

氮；和

氧，第一层内的氧浓度是12.7原子%至16.5原子%；以及

第二层，其布置成与第一层相邻并且包括1.6或更小的折射率，其中，膜堆叠包括-200MPa至200 MPa的残留应力，并且基材包括小于0.0005米的弓形。

12.如权利要求11所述的制品，其中，膜堆叠包括以交替方式布置的多个第一层和多个第二层，以及所述多个第二层中的至少一个包含二氧化硅。

13.如权利要求12所述的制品，其中，所述多个第一层的总厚度大于所述多个第二层的总厚度。

14.如权利要求11所述的制品，其还包括：

第三层，其布置在膜堆叠内并且包含与第一层相同的组成，其中，第三层的厚度大于第一层；所述第一层和第二层中的每一个具有4 nm至100 nm的厚度，所述第三层具有200 nm至2 μm的厚度；并且第三层的厚度占据膜堆叠的总厚度的40%至99%。

15.如权利要求14所述的制品，其中，第三层包含的氧浓度是14原子%至15原子%。

16.如权利要求11-15中任一项所述的制品，其中，基材包括基于玻璃的材料。

17.如权利要求11-15中任一项所述的制品，其中，铝组成包含47原子%至50原子%。

18.一种耐划痕膜制品，其包括：

基材；和

布置在基材上的膜，所述膜包含：

铝：

氮；和

氧，膜内的氧浓度是12.7原子%至16.5原子%，其中，膜内的残留应力是-200 MPa至0MPa，并且基材包括小于0.0005米的弓形。

19.如权利要求18所述的制品，其中，膜由单层构成。