[发明专利]印制线路板在审

专利信息
申请号: 201880010111.7 申请日: 2018-02-09
公开(公告)号: CN110235530A 公开(公告)日: 2019-09-13
发明(设计)人: 春名裕介;香月贵彦;长谷川刚;田岛宏 申请(专利权)人: 拓自达电线株式会社
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02;H05K9/00
代理公司: 北京市安伦律师事务所 11339 代理人: 郭扬;孙晓斌
地址: 日本大阪府东*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 胶粘剂层 低熔点金属层 线路板 补强构件 基体膜 导电性粒子 接地电路 印制 导电性 接合性树脂 印制电路 印制线路 电阻 基膜
【权利要求书】:

1.一种印制线路板,其特征在于,包括:

基体膜,在基膜上形成包含接地电路在内的印制电路而成;

胶粘剂层,形成于所述基体膜上;

补强构件,形成于所述胶粘剂层上并具有导电性;

其中,所述胶粘剂层包含导电性粒子和接合性树脂;

所述导电性粒子是从由在不具有导电性的核粒子形成第1低熔点金属层而成的第1导电性粒子、自身具有导电性的第2导电性粒子以及在具有导电性的核粒子形成第1低熔点金属层而成的第3导电性粒子构成的群中选择的至少1种;

所述基体膜和所述胶粘剂层之间形成有第2低熔点金属层、或所述基体膜和所述胶粘剂层直接接触;

所述胶粘剂层和所述补强构件之间形成有第3低熔点金属层、或所述胶粘剂层和所述补强构件直接接触;

所述印制线路板包括从由所述第1低熔点金属层、所述第2低熔点金属层以及所述第3低熔点金属层构成的群中选择的至少1种低熔点金属层;

所述接地电路和所述补强构件通过从由所述第1低熔点金属层、所述第2低熔点金属层以及所述第3低熔点金属层构成的群中选择的至少1种低熔点金属层而电连接。

2.根据权利要求1所述的印制线路板,其特征在于:

所述导电性粒子的平均粒径为1~200μm。

3.根据权利要求1或2所述的印制线路板,其特征在于:

所述第1低熔点金属层由熔点为300℃以下的金属形成。

4.根据权利要求1至3的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:

所述第1低熔点金属层的厚度为0.1~50μm。

5.根据权利要求1至4的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:

所述第1低熔点金属层包含助焊剂。

6.根据权利要求1至5的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:

所述第2低熔点金属层由熔点为300℃以下的金属形成。

7.根据权利要求1至6的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:

所述第2低熔点金属层的厚度为0.1~50μm。

8.根据权利要求1至7的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:

所述第2低熔点金属层包含助焊剂。

9.根据权利要求1至8的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:

所述第3低熔点金属层由熔点为300℃以下的金属形成。

10.根据权利要求1至9的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:

所述第3低熔点金属层的厚度为0.1~50μm。

11.根据权利要求1至10的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:

所述第3低熔点金属层包含助焊剂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于拓自达电线株式会社,未经拓自达电线株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880010111.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top