[发明专利]印制线路板在审
申请号: | 201880010111.7 | 申请日: | 2018-02-09 |
公开(公告)号: | CN110235530A | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 春名裕介;香月贵彦;长谷川刚;田岛宏 | 申请(专利权)人: | 拓自达电线株式会社 |
主分类号: | H05K1/02 | 分类号: | H05K1/02;H05K9/00 |
代理公司: | 北京市安伦律师事务所 11339 | 代理人: | 郭扬;孙晓斌 |
地址: | 日本大阪府东*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 胶粘剂层 低熔点金属层 线路板 补强构件 基体膜 导电性粒子 接地电路 印制 导电性 接合性树脂 印制电路 印制线路 电阻 基膜 | ||
1.一种印制线路板,其特征在于,包括:
基体膜,在基膜上形成包含接地电路在内的印制电路而成;
胶粘剂层,形成于所述基体膜上;
补强构件,形成于所述胶粘剂层上并具有导电性;
其中,所述胶粘剂层包含导电性粒子和接合性树脂;
所述导电性粒子是从由在不具有导电性的核粒子形成第1低熔点金属层而成的第1导电性粒子、自身具有导电性的第2导电性粒子以及在具有导电性的核粒子形成第1低熔点金属层而成的第3导电性粒子构成的群中选择的至少1种;
所述基体膜和所述胶粘剂层之间形成有第2低熔点金属层、或所述基体膜和所述胶粘剂层直接接触;
所述胶粘剂层和所述补强构件之间形成有第3低熔点金属层、或所述胶粘剂层和所述补强构件直接接触;
所述印制线路板包括从由所述第1低熔点金属层、所述第2低熔点金属层以及所述第3低熔点金属层构成的群中选择的至少1种低熔点金属层;
所述接地电路和所述补强构件通过从由所述第1低熔点金属层、所述第2低熔点金属层以及所述第3低熔点金属层构成的群中选择的至少1种低熔点金属层而电连接。
2.根据权利要求1所述的印制线路板,其特征在于:
所述导电性粒子的平均粒径为1~200μm。
3.根据权利要求1或2所述的印制线路板,其特征在于:
所述第1低熔点金属层由熔点为300℃以下的金属形成。
4.根据权利要求1至3的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:
所述第1低熔点金属层的厚度为0.1~50μm。
5.根据权利要求1至4的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:
所述第1低熔点金属层包含助焊剂。
6.根据权利要求1至5的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:
所述第2低熔点金属层由熔点为300℃以下的金属形成。
7.根据权利要求1至6的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:
所述第2低熔点金属层的厚度为0.1~50μm。
8.根据权利要求1至7的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:
所述第2低熔点金属层包含助焊剂。
9.根据权利要求1至8的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:
所述第3低熔点金属层由熔点为300℃以下的金属形成。
10.根据权利要求1至9的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:
所述第3低熔点金属层的厚度为0.1~50μm。
11.根据权利要求1至10的任意一项所述的印制线路板,其特征在于:
所述第3低熔点金属层包含助焊剂。
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