[实用新型]一种环形扰流结构的晶体搅拌桨

说明书

本实用新型公开一种环形扰流结构的晶体搅拌桨，包括上转盘、下转盘、搅拌叶、扰流环、转动轴，所述上转盘与下转盘之间连接搅拌叶，所述搅拌叶设置在上转盘与下转盘构成的外周面上，所述上转盘、下转盘呈中空圆筒形状，所述上转盘、下转盘的外周面沿周面水平设置有扰流环，所述下转盘上的扰流环间距自上而下递增，所述上转盘上的扰流环间距自伤而下递减，所述上转盘的上表面竖直连接有转动轴。通过上述方式，本实用新型提供一种环形扰流结构的晶体搅拌桨，实现上层溶液与下层溶液的交替分层搅拌和相互交换，促进晶体溶液的均匀度，提升晶体的成型质量。

技术领域

本实用新型涉及晶体成型设备领域，尤其涉及一种环形扰流结构的晶体搅拌桨。

背景技术

现有晶体搅拌桨无法实现上层溶液和下层溶液的快速均匀交换搅拌，晶体的成型效果不佳。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种环形扰流结构的晶体搅拌桨，实现上层溶液与下层溶液的交替分层搅拌和相互交换，促进晶体溶液的均匀度，提升晶体的成型质量。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种环形扰流结构的晶体搅拌桨，包括上转盘、下转盘、搅拌叶、扰流环、转动轴，所述上转盘与下转盘之间连接搅拌叶，所述搅拌叶设置在上转盘与下转盘构成的外周面上，所述上转盘、下转盘呈中空圆筒形状，所述上转盘、下转盘的外周面沿周面水平设置有扰流环，所述下转盘上的扰流环间距自上而下递增，所述上转盘上的扰流环间距自上而下递减，所述上转盘的上表面竖直连接有转动轴。

在本实用新型一个较佳实施例中，每个所述扰流环的宽度相等。

本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的一种环形扰流结构的晶体搅拌桨，实现上层溶液与下层溶液的交替分层搅拌和相互交换，促进晶体溶液的均匀度，提升晶体的成型质量。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：

图1 是本实用新型一种环形扰流结构的晶体搅拌桨的一较佳实施例的结构图。

具体实施方式

下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示，本实用新型实施例包括：

一种环形扰流结构的晶体搅拌桨，包括上转盘1、下转盘2、搅拌叶3、扰流环4、转动轴5，所述上转盘1与下转盘2之间连接搅拌叶3，所述搅拌叶3设置在上转盘1与下转盘2构成的外周面上，所述上转盘1、下转盘2呈中空圆筒形状，所述上转盘1、下转盘2的外周面沿周面水平设置有扰流环4，所述下转盘2上的扰流环4间距自上而下递增，所述上转盘1上的扰流环4间距自上而下递减，所述上转盘1的上表面竖直连接有转动轴5。

其中，每个所述扰流环4的宽度相等。

综上所述，本实用新型提供了一种环形扰流结构的晶体搅拌桨，实现上层溶液与下层溶液的交替分层搅拌和相互交换，促进晶体溶液的均匀度，提升晶体的成型质量。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。