[实用新型]无张力磁控溅射镀膜室及织物镀膜装置

说明书

本实用新型提供一种无张力磁控溅射镀膜室及织物镀膜装置。该无张力磁控溅射镀膜室，包括真空腔体，真空腔体中设有镀膜辊和水平隔板；水平隔板将真空腔体分成传送室和溅射室；传送室中设有多个第一导辊；溅射室中设有多个溅射源，多个溅射源沿镀膜辊周向设置，相邻的溅射源之间设有一组第二导辊；第二导辊与镀膜辊之间具有供织物通过的间隙，且每组第二导辊中，相邻的第二导辊之间具有供织物通过的间隙；驱动设备驱动镀膜辊、第一导辊和第二导辊转动，以将织物由织物入口运送至织物出口。本实用新型提供的无张力磁控溅射镀膜室，能够增大织物与导辊之间的接触面积以及摩擦力，避免织物在导辊的拉扯下发生变形，提高着色质量。

技术领域

本实用新型涉及织物真空镀膜技术，尤其涉及一种无张力磁控溅射镀膜室及织物镀膜装置。

背景技术

磁控溅射技术属于真空镀膜技术，是在相对稳定的真空状态下，阴阳极间产生辉光放电，两极间气体分子被离子化而产生带点电荷，其中正离子受阴极负电位加速运动而撞击靶材，将靶材中的原子溅出并在基材上形成薄膜。磁控溅射具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，并能实现高速、低温、低损伤，因此一般可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，近年来也有将磁控溅射技术用于织物着色的相关报道。

图1为现有技术中磁控溅射镀膜装置的结构示意图，可应用于织物的磁控溅射镀膜。请参照图1，该磁控溅射镀膜装置主要包括真空腔体1，真空腔体1内设有镀膜辊2，在镀膜辊2上方的左右两侧分别设有收布轮3和放布轮4，真空室1内还设有多个导向轮5，镀膜辊2的下方设有靶材罩6和模板7，靶材罩6内设有多个溅射源，靶材罩6和镀膜辊2之间的间隙即为靶材溅射区域，模板7位于该溅射区域中。在进行织物镀膜着色时，缠绕在收布轮3上的织物经导向轮5的引导后缠绕在镀膜辊2上，缠绕在镀膜辊2上的织物经过靶材溅射区域时，从靶材罩6内射出的靶材粒子流穿过模板7的镂空区域，从而在织物表面形成与镂空区域匹配图案的生色膜层。

针织布是利用织针将纱线弯曲成圈并相互串套而形成的织物，由于针织布具有优良的弹性与延伸性，因此若使用现有磁控溅射镀膜装置对针织布进行镀膜着色，生产过程中针织布在导辊的拉扯下极易发生变形，着色完成时，织物回弹，导致织物表面的膜层破裂，造成着色不匀均、色牢度低等问题。因此，迫切地需要开发出一款适用于针织布等弹性织物的无张力磁控溅射镀膜室以及织物镀膜装置。

实用新型内容

针对现有技术中的上述缺陷，本实用新型提供一种无张力磁控溅射镀膜室以及织物镀膜装置，能够用于织物着色并避免织物发生变形，尤其适合针织布等弹性织物的镀膜着色。

为实现上述目的，本实用新型提供一种无张力磁控溅射镀膜室，包括真空腔体，真空腔体相对的两侧壁上分别设有织物入口和织物出口；真空腔体中设有镀膜辊和水平隔板；水平隔板的一端与真空腔体的内壁固定连接，另一端与镀膜辊之间形成有供织物通过的间隙；水平隔板将真空腔体分成上方的传送室和下方的溅射室；传送室中设有多个第一导辊；溅射室中设有多个溅射源，多个溅射源沿镀膜辊周向设置，相邻的溅射源之间设有一组第二导辊；第二导辊与镀膜辊之间具有供织物通过的间隙；每组第二导辊中，相邻的第二导辊之间具有供织物通过的间隙；镀膜辊、第一导辊和第二导辊均与驱动设备相连；驱动设备驱动镀膜辊、第一导辊和第二导辊转动，以将织物由织物入口运送至织物出口。

如上所述的无张力磁控溅射镀膜室，进一步的，每组第二导辊的数量为奇数个，且相邻的第二导辊的转动方向相反。

如上所述的无张力磁控溅射镀膜室，进一步的，第二导辊的表面上设有防滑纹。

如上所述的无张力磁控溅射镀膜室，进一步的，每组第二导辊中，相邻的第二导辊之间的距离不超过5mm；和/或，第二导辊与镀膜辊之间的距离不超过5mm。

如上所述的无张力磁控溅射镀膜室，进一步的，第一导辊均为主动辊；和/或，第二导辊均为主动辊。

如上所述的无张力磁控溅射镀膜室，进一步的，镀膜辊、第一导辊和第二导辊转动的线速度均相同。