[实用新型]一种全方位镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种全方位镀膜装置，包括真空箱体，所述真空箱体设置有两个相对的开口，两个开口上分别设置有第一箱门和第二箱门，所述第一箱门位于真空箱体内的表面上设置有固定靶，所述第二箱门位于真空箱体内的表面上通过旋转轴与工件架连接，所述工件架内设置有用于固定产品的夹具，所述旋转轴与旋转动力组件连接，所述固定靶伸入工件架内，所述真空箱体与真空系统连接。本实用新型主要具备超厚膜层(膜厚＞2微米)均匀镀膜效果，成品生产过程中不需要破真空，溅射镀膜效率高，成本低，产能大,真正实现工业量产。

技术领域

本实用新型涉及表面处理技术领域，具体涉及一种全方位镀膜装置。

背景技术

磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

磁控溅射设备是现有镀膜的常用设备之一，通过对产品移动速度的控制以及磁控溅射的工艺参数达到镀膜效果，磁控溅射设备均为流水线形式的长条形结构，即多腔体溅射，产品沿长度方向移动，因此特别适合平面型产品的镀膜使用，能够达到较高均匀性的镀膜效果,但可镀的膜层厚度有限(＜1微米)。

但是由于生产线形式的限定，产品镀膜厚度得到限制，镀膜厚度较大时，生产线长度也需要增加，特别是要明显降低产品流水线速度(延长产品在设备中停留时间)，投入成本极大，无量产可能；流水线平面镀膜设备是不断破真空抽真空方式，损耗很大，对于一些立体结构的产品需要多面镀膜，平面流水线无法实现均一性立体镀膜，相关的立体镀膜固定装置的研发也是国内空白。不仅现有磁控溅射设备中加工出现厚度不均的情况，产品不良率极高，而且成本远高于客户的需求。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种全方位镀膜装置，成品生产过程中不需要破真空，溅射镀膜效率高，具有超厚(膜厚＞2微米)均匀镀膜效果，成本低，产能大。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种全方位镀膜装置，包括真空箱体，所述真空箱体设置有两个相对的开口，两个开口上分别设置有第一箱门和第二箱门，所述第一箱门位于真空箱体内的表面上设置有固定靶，所述第二箱门位于真空箱体内的表面上通过旋转轴与工件架连接，所述工件架内设置有用于固定产品的夹具，所述旋转轴与旋转动力组件连接，所述固定靶伸入工件架内，所述真空箱体与真空系统连接。

进一步的，所述工件架为桶状结构，所述工件架上设置有两个配合的溅射挡环。

进一步的，所述真空系统为多级真空器，镀膜时，真空箱体内的真空度至少为10^-2。

进一步的，所述第一箱门和第二箱门均与对应的移动小车连接，所述移动小车设置在移动导轨上。

进一步的，所述移动小车还与行走动力机构连接。

进一步的，所述真空箱体位于第一箱门和第二箱门的两端上均设置有法兰环部。

进一步的，所述旋转动力组件包括配合连接的旋转电机和减速机。

本实用新型的有益效果：

固定靶在有效空间内高速溅射镀膜，而能够旋转的工件架能够带动产品转动，从而形成立体镀膜的效果，并且真空箱体为单腔结构，结构相对简单，成本低，密封效果优于多腔结构，真空度高且不易被破坏，在同等磁场下，实现有更高的轰击阴级靶体速度。从而有效保持生产稳定性以及提高产量。

附图说明

图1是本实用新型的装置结构示意图；

图2是本实用新型通过移动小车连接的结构示意图；

图3是本实用新型图2中结构打开时的示意图。

具体实施方式