[实用新型]一种阴极电弧源的机箱水冷却系统有效
申请号: | 201822196807.3 | 申请日: | 2018-12-26 |
公开(公告)号: | CN209292465U | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 吴伟亮;邓永琪;梁海洋 | 申请(专利权)人: | 苏州星蓝纳米技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 江苏昆成律师事务所 32281 | 代理人: | 刘尚轲 |
地址: | 215000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 机箱 冷却水管 支路 流量计 压力表 水泵 水冷却系统 阴极电弧源 电源 电磁阀 阴极源 水箱 靶材 冷却水出水阀 冷却水进水阀 本实用新型 电性连接 机箱内部 水箱连接 影像 外部 | ||
为了解决以上由于机箱内部产生的大量的热会影像电源的工作状态的问题,本实用新型提出一种阴极电弧源的机箱水冷却系统,其包括:机箱2、水箱1、冷却水进水阀3、冷却水出水阀4、电磁阀5、压力表6、流量计7、水泵M,其中,机箱2内部含有电源和靶材阴极源,且电源与靶材阴极源电性连接,其特征在于:机箱2的外部设有冷却水管支路,冷却水管支路上分别设有电磁阀5、压力表6和流量计7,且冷却水管支路的一端与水泵M连接,水泵M与水箱1连接,冷却水管支路的另外一端与水箱连接。
技术领域
本实用新型属于表面处理技术领域,较为具体的,涉及到一种阴极电弧源的机箱水冷却系统。
背景技术
物理气相沉积(PVD,physical Vapor Deposition)是在现代物理、化学、材料学、电子学等多学科基础上发展起来的一门先进的工程技术。它是将靶材(所镀薄膜材料)在真空环境下,经过物理过程而沉积在衬底(需镀膜工件)表面的过程。使用物理气相沉积技术在廉价的金属材料表面制造硬质陶瓷涂层是近年来研究的热点,在工具和模具上已经取得了成功的应用,解决了刀具的磨损和耐高温问题。电弧离子镀和磁控溅射是PVD方法中最为常见的硬质陶瓷涂层的制造技术。
其中,电弧离子镀采用阴极电弧源,离化率高,离子流密度大,离子流量高,沉积速率快,膜基结合力好。但是,阴极电弧源在工作的过程中,由于机箱内部会产生大量的热,而产生的大量的热会直接影像阴极电弧源的电源的工作状态,从而影像与电源电性连接的靶材的离化效果。
发明内容
有鉴于此,为了解决以上由于机箱内部产生的大量的热会影像电源的工作状态的问题,本实用新型提出一种阴极电弧源的机箱水冷却系统,其通过将传统的机箱外部的风冷却系统改为循环水冷却系统,可以快速带走阴极电弧源的机箱表面的热量,从而保证了电源工作的稳定性。
一种阴极电弧源的机箱水冷却系统,其包括:机箱2、水箱1、冷却水进水阀3、冷却水出水阀4、电磁阀5、压力表6、流量计7、水泵M,其中,机箱2内部含有电源和靶材阴极源,且电源与靶材阴极源电性连接,其特征在于:机箱2的外部设有冷却水管支路,冷却水管支路上分别设有电磁阀5、压力表6和流量计7,且冷却水管支路的一端与水泵M连接,水泵M与水箱1连接,冷却水管支路的另外一端与水箱连接。
进一步的,水泵M采用轻型立式多级离心泵,水泵M能承受的最高压力为2~5kgf/cm2,扬程为5~10m。
进一步的,水箱1的内部的循环水的体积为1m3。
进一步的,在水泵M与冷却水管支路的一端之间设有冷却水进水阀3,冷却水进水阀3用于调节水箱1中的循环水进入到冷却水管支路的流量。
进一步的,在冷却水管支路的另外一端与水箱1之间设有冷却水出水阀4,冷却水出水阀4用于调节冷却水支路中的循环水进入到水箱1的流量。
进一步的,当只有一个机箱时,冷却水管支路的数量为1个;当机箱的数量为多个时,则冷却水管支路的数量与机箱的数量相等,且各个冷却水支路之间并联。
进一步的,当机箱的数量为多个时,多个冷却水管支路的一端汇流,并与水泵M连接;多个水冷却支路的另外一端汇流,并与水箱1连接。
进一步的,当机箱的数量为多个时,多个冷却水支路的一端汇流处与水泵M之间设有冷却水进水阀3;多个冷却水支路的另外一端汇流处与水箱1之间设有冷却水出水阀4。
进一步的,为了进一步提升降温效果,冷却水支路在机箱的外表面呈蛇形分布。
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