[实用新型]一种抛光机研磨液回收循环装置有效

专利信息
申请号: 201822169337.1 申请日: 2018-12-23
公开(公告)号: CN209520777U 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 唐宏 申请(专利权)人: 东莞市台协机械有限公司
主分类号: B24B57/02 分类号: B24B57/02;B01D35/02;B01D29/01
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 523841 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 抛光机 循环水箱 抛光液 回收循环装置 回收 研磨液 本实用新型 斜坡面 工作台 斜坡 遮罩 清洁度 抛光机主轴 液面传感器 过滤筛网 回收利用 加工车间 进液机构 连成一体 循环水泵 透明 工件座 排出 筛滤 过滤 四面 包围
【说明书】:

实用新型公开了一种抛光机研磨液回收循环装置,包括设置在抛光机主轴四面的柔性透明遮罩和回收抛光液的回收循环水箱,所述回收循环水箱包括设置在四周的回流斜坡面,所述四周的回流斜坡面将抛光机的工作台包围在中间,回流斜坡面的底部与工作台连成一体,工件台上工件座到回收循环水箱之间设置有过滤筛网,回收循环水箱内部设有循环水泵和液面传感器;所述柔性透明遮罩位于回流斜坡面上方。本实用新型抛光机研磨液回收循环装置将抛光机内排出的抛光液进行筛滤后,将过滤后的抛光液再次的抽回到抛光机上的进液机构,完成抛光液的回收利用,减少了资源浪费,且提高了加工车间的清洁度。

技术领域

本实用新型金属及非金属结构件加工领域,尤其涉及电子3C行业手机外壳打磨抛光的抛光机研磨液回收循环装置。

背景技术

抛光液的高效循环利用,是整个抛光行业的普遍现象,而怎样快速的过滤清理抛光液中的杂质,则是整个行业在循环利用抛光液时,需要特别考虑的问题。目前,现有的抛光液过滤循环系统使用效果还不够理想,主要一方面是抛光液的回收利用率很低(小于50%),造成的浪费带来的是工序成本降不下来;另一方面管路的复杂使得清洁保养工作量繁杂。以上各种不足有待进一步改善。

现有技术中的磨削加工的五轴抛光机,在抛光过程中使用抛光粉溶液,每台抛光机的抛光粉溶液都是采用单机自循环。这种单机自循环的方式产生的导轨油及杂质会汇入抛光粉溶液中,降低抛光粉溶液浓度,加大抛光粉的添加量,浪费抛光粉;较多的抛光粉会喷洒到机台内部,也带来很大的清洁问题。。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型的目的是提供一种抛光机研磨液回收循环装置,该抛光机研磨液回收循环装置的抛光液回收利用率高,降低了抛光粉的浪费。

本实用新型通过以下技术手段解决上述技术问题:

本实用新型的一种抛光机研磨液回收循环装置,所述抛光机包括工作台和主轴,所述抛光机研磨液回收循环装置包括设置在抛光机主轴四面的柔性透明遮罩和回收抛光液的回收循环水箱,所述回收循环水箱包括设置在四周的回流斜坡面,所述四周的回流斜坡面将抛光机的工作台包围在中间,回流斜坡面的底部与工作台连成一体,工件台上工件座到回收循环水箱之间设置有过滤筛网,回收循环水箱内部设有循环水泵和液面传感器;所述柔性透明遮罩位于回流斜坡面上方。

进一步,所述循环水泵的出液口与抛光机上的进液机构相互连通。

进一步,所述抛柔性透明遮罩具有四面,所述四面柔性透明遮罩分别位于主轴的前、后、左、右四个方位;还包括用于控制和调整所述柔性透明遮罩位置和高度的调控机构,所述调控机构包括两个对称设置在抛光机主轴两端吊臂上面的气缸,所述两个气缸倾斜设置,气缸的推杆端部与位于主轴前侧的柔性透明遮罩连接。

进一步,所述两个气缸倾斜35-55度。

本实用新型的有益效果:

本实用新型抛光机研磨液回收循环装置,包括设置在抛光机主轴四面的柔性透明遮罩和回收抛光液的回收循环水箱,所述回收循环水箱包括设置在四周的回流斜坡面,所述四周的回流斜坡面将抛光机的工作台包围在中间,回流斜坡面的底部与工作台连成一体,工件台上工件座到回收循环水箱之间设置有过滤筛网,回收循环水箱内部设有循环水泵和液面传感器;所述柔性透明遮罩位于回流斜坡面上方。本实用新型抛光机研磨液回收循环装置将抛光机内排出的抛光液进行筛滤后,将过滤后的抛光液再次的抽回到抛光机上的进液机构,完成抛光液的回收利用,减少了资源浪费,且提高了加工车间的清洁度。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步描述。

图1为现有抛光机的立体结构示意图;

图2为现有抛光机的内部立体结构示意图;

图3为安装有本实用新型抛光机研磨液回收循环装置的抛光机的内部立体结构示意图。

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