[实用新型]一种柔性基材磁控溅射镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201822068265.1 申请日: 2018-12-11
公开(公告)号: CN209276622U 公开(公告)日: 2019-08-20
发明(设计)人: 龙志光 申请(专利权)人: 深圳市超为龙科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518100 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 镀膜仓 密封门 置物台 磁控溅射镀膜设备 镀膜装置 柔性基材 行进轨道 控制箱 工作机箱 推拉把手 装置设计 电连接 底端中心位置 本实用新型 轨道推拉式 箱体上端面 安装立柱 便于安装 镀膜材料 镀膜设备 前后设置 观测窗 门板 圆型 焊接 观测
【说明书】:

实用新型公开了一种柔性基材磁控溅射镀膜设备,包括工作机箱、推拉把手、观测窗、密封门、镀膜装置、镀膜仓、控制箱、置物台、行进轨道,工作机箱箱体上端面安装有镀膜装置、镀膜仓和控制箱,镀膜装置与镀膜仓为电连接且为前后设置安装,镀膜仓左侧电连接安装有控制箱,镀膜仓前端安装有行进轨道,密封门安装在行进轨道上,两个观测窗上下设置安装在密封门门板上,密封门左侧焊接有推拉把手,置物台安装在镀膜仓底端中心位置,一种柔性基材磁控溅射镀膜设备,本装置设计为镀膜设备,本装置设计为轨道推拉式的密封门,操作方便,安全性好,置物台为圆型设计,便于安装待镀膜材料,且置物台的安装立柱可以根据需求进行位置和数量的调整。

技术领域

本实用新型涉及镀膜领域,特别是一种柔性基材磁控溅射镀膜设备。

背景技术

磁控溅射是物理气相沉积的一种,一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种柔性基材磁控溅射镀膜设备。为实现上述目的本实用新型采用以下技术方案:

一种柔性基材磁控溅射镀膜设备,包括工作机箱、推拉把手、观测窗、密封门、镀膜装置、镀膜仓、控制箱、置物台、行进轨道,工作机箱箱体上端面安装有镀膜装置、镀膜仓和控制箱,镀膜装置与镀膜仓为电连接且为前后设置安装,镀膜仓左侧电连接安装有控制箱,镀膜仓前端安装有行进轨道,密封门安装在行进轨道上,两个观测窗上下设置安装在密封门门板上,密封门左侧焊接有推拉把手,置物台安装在镀膜仓底端中心位置。

优选的,所述置物台由安装盘、安装立柱和安装台组成,两个安装盘通过中心位置的转轴安装固定,四个安装台均匀布置在底部的安装盘上,安装立柱安装在安装台上实现固定安装。

优选的,所述安装立柱底端设置由安装槽,安装台由安装圆台和复位弹簧组成,复位弹簧安装在安装圆台的杆体上,安装槽与安装圆台的转轴对应设置,安装时安装立柱通过安装槽固定安装在安装圆台上,松开安装立柱,复位弹簧将安装立柱顶起,实现了安装立柱的固定安装。

优选的,所述行进轨道的轨道末端安装了限位块,避免了密封门因误操作滑出轨道。

与现有技术相比,本实用新型具有以下优点:一种柔性基材磁控溅射镀膜设备,本装置设计为镀膜设备,本装置设计为轨道推拉式的密封门,操作方便,安全性好,置物台为圆型设计,便于安装待镀膜材料,且置物台的安装立柱可以根据需求进行位置和数量的调整。

附图说明

图1为本实用新型柔性基材磁控溅射镀膜设备的结构示意图。

图2为本实用新型密封门的安装结构示意图。

图3为本实用新型置物台的结构示意图。

图4为本实用新型安装台的结构示意图。

图5为本实用新型行进轨道的结构示意图。

图中:1、工作机箱,2、推拉把手,3、观测窗,4、密封门,5、镀膜装置,6、镀膜仓,7、控制箱,8、置物台,9、行进轨道,10、安装盘,11、安装立柱,12、安装台,13、安装槽,14、安装圆台,15、复位弹簧。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细阐述。

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