[实用新型]一种入射电磁波的增透装置

说明书

本实用新型提供了一种入射电磁波的增透装置，所述增透装置包括基底介质和用于改变电磁波入射界面的反射、投射系数大小和相位的金属光栅，所述金属光栅包括若干个相互平行的条形金属，若干个所述的条形金属沿所述基底介质的宽度方向依次等间距排列，所述金属光栅设置在所述基底介质的一侧，电磁波从所述金属光栅所在的一侧入射，并依次透过所述金属光栅和基底介质。该增透装置能够在基底介质宽度较大的范围内显著地减小反射，增大电磁波的透过率；同时，通过调节金属光栅的宽度和周期，可调节电磁波的透射率。具体使用时，只需设定目标透射率，然后找到合适的金属光栅的宽度和周期即可，给实际应用带来了很大的便利。

技术领域

本实用新型属于电磁波透射领域，尤其涉及一种入射电磁波的增透装置。

背景技术

电磁波在不同介质表面传输时会发生反射与透射，这在光学应用领域是一个重要的现象。

然而，在许多应用过程中，由于插入损耗和法布里珀罗效应的存在，经常需要降低介质对电磁波的反射，使得传输的能量能够达到最大，以便于信息的传输等等。目前，对介质增透的方法主要有单层1/4介质膜和多层膜。然而，这两种方法需要满足特定介质膜厚度和折射率的要求。在远红外、微波波段的传输过程中，需要基底材料具有较大的折射率，这将很难找到合适的天然介质膜材料满足折射率匹配的条件。经过研究人员的努力，提出设计运用人工电介质结构(表面凹凸结构)得到相应的折射率值满足增透膜所需的匹配条件，但由于其加工难度较大且存在表面不平滑，将限制它们在许多光学器件的应用。

因此，有必要提供一种基底介质增透的方案，以解决上述实际应用问题。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种入射电磁波的增透装置，旨在解决电磁波在介质中的传输，难以较为简便的实现基底介质增透的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型是这样实现的，一种入射电磁波的增透装置，包括基底介质和用于改变电磁波入射界面的反射、投射系数大小和相位的金属光栅，所述金属光栅包括若干个相互平行的条形金属，若干个所述条形金属沿所述基底介质的宽度方向依次等间距排列在所述基底介质的一侧，电磁波从所述金属光栅所在的一侧入射，并依次透过所述金属光栅和基底介质。

进一步地，所述条形金属的宽度为x，相邻两个条形金属之间的中心距为所述金属光栅的周期y，其中y-x≥0.1mm。

进一步地，所述条形金属呈长方体形状。

进一步地，所述基底介质的材料为硅、聚乙烯或石英中的任意一种，所述金属光栅的材料为金、银、铜或铝中的任意一种。

本实用新型与现有技术相比，有益效果在于：本实用新型的一种入射电磁波的增透装置，其通过在基底介质的表面设置一层金属光栅，使得电磁波从金属光栅所在的一侧入射，电磁波会依次透过所述金属光栅和基底介质，从而能够在基底介质宽度较大的范围内显著地减小反射，增大电磁波的透过率。同时，通过调节所述金属光栅的宽度和金属光栅的周期，可达到调节电磁波透射率的效果。利用该增透装置，可根据需要设定目标透射率，然后找到合适的金属光栅，使得所述金属光栅的宽度和金属光栅的周期能够满足目标透射率的需求即可，给实际应用带来了很大的便利。

附图说明

图1是本实用新型优选实施例中预设基底介质增透结构示意图；

图2是本实用新型优选实施例利用图1的的增透装置调节电磁波透射率的方法的流程示意图；

图3是本实用新型优选实施例中无光栅时预设基底介质厚度与透射率示意图；

图4是本实用新型优选实施例中预设光栅周期和光栅宽度变化与透射率的示意图；

图5是本实用新型优选实施例中预设光栅周期和光栅宽度变化与反射率的示意图；