[实用新型]一种靶材喷砂工装有效

专利信息
申请号: 201821777771.1 申请日: 2018-10-31
公开(公告)号: CN209256702U 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 夏乾坤;李玉鹏;张晓娜;郭姗姗;王绍帅;庞欣;陈明;刘冬青 申请(专利权)人: 有研亿金新材料有限公司
主分类号: B24C9/00 分类号: B24C9/00
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 张文宝
地址: 102200*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 喷砂 上盖 喷砂工装 喉箍 本实用新型 粗糙度 靶材 靶面 侧面 对靶 喷枪 压圈 尺寸配合 上盖结构 传统的 角度比 盖子 工装 划伤 砂粒 钻进 底座 配合 保证
【说明书】:

实用新型公开了一种靶材喷砂工装,该工装主要分为上盖,压圈,底座,喉箍四个部分。四个部分相互配合,打破了传统固定尺寸配合的喷砂办法。上盖结构的改变,使上盖的不再是简单的扣在靶面上平面,而是可以包在靶面的侧面。喉箍的安装位置安装在上盖的侧面,通过对喉箍的调节使上盖紧紧包在靶面侧面,保证喷砂时砂粒不会钻进盖子内划伤靶面。压圈的角度比传统的开得更大,大的角度可以使喷枪更加倾斜接近于水平方向,从而间接增大喷枪对靶的压力,从而增加喷砂的粗糙度。通过本实用新型对喷砂工装结构的改变,可以较容易的获得较高的喷砂粗糙度,且对靶面有更好的保护。

技术领域

本实用新型涉及溅射技术领域,具体涉及一种靶材喷砂工装。

背景技术

自20世纪90年代以来,中国电子设备市场便有着高的速发展,在高纯溅射靶材的需求量日益增大的同时靶材的市场规模也在不断地扩大,半导体行业的快速发展使靶材行业的发展呈现高速增长的势头。随着我国溅射靶材生产技术的成熟,尤其是国产溅射靶材具备较高的性价比优势,并且符合溅射靶材国产化的政策导向,我国溅射靶材的市场规模在进一步扩大,并且在全球市场中已经获得了更多客户的认可,市场份额也在不断地提高,总体来说,靶材行业前景十分广阔。因此到目前位置,靶材的使用量十分庞大,而喷砂工序是大多数靶材的重要工序之一,因此喷砂十分重要。

而在靶材加工生产的过程中,喷砂工序中存在着许许多多的问题。随着半导体行业的进步,客户对靶材质量的要求也越来越高。因为靶材喷砂区在靶材溅射中起着吸附的作用,从而直接影响着硅片的质量。所以靶材对喷砂区的要求也越来越高,直接体现在对靶材喷砂区的粗糙度数值上。随着喷砂区粗糙度要求的提高,一些喷砂工装也逐渐达不到要求。部分喷砂工装因为喷枪角度受到了限制,因此在压力在达到最大的时候,喷砂区粗糙度仍然达不到要求。而喷砂区粗糙度相对较低的时候便会引起以下问题:

靶材喷砂区粗糙度较低,在靶材溅射的过程中,吸附能力相对来说比较弱,因此对靶材反溅射层的杂质粒子吸附的不够完全,没有被吸附的杂质粒子便落在了硅片上,轻者影响硅片质量及寿命,严重的话便造成硅片颗粒指数超标,导致硅片不合格。

还有一些传统工装,为了增大压力,通过改变了压圈的结构调整了喷枪对靶材侧面的角度。这种工装虽然增大了压力,但由于喷砂上盖扣在靶面的上平面上,而且由于喷枪角度的调整,压力的增大,从而导致砂粒更容易在上盖与靶面的缝隙中钻进盖子内部,落在靶面上,对靶材溅射面造成划伤。靶面的划伤会导致靶材的不合格。所以,对喷砂工艺过程中所用到的整套喷砂进行相应的改进还是十分有必要的。

实用新型内容

针对现有技术中的问题,针对现有技术中的问题,本实用新型提供一种靶材喷砂工装,可在提高喷砂效果的同时避免靶面损伤。

一种靶材喷砂工装,包括:喷砂上盖、喷砂压圈和喷砂底座,其特征在于:喷砂上盖扣在靶面上,设置有支撑在靶材溅射面上的支撑脚架与贴在靶面侧面夹紧脚架,靶材坐在喷砂底座上,喷砂压圈压在靶材法兰面以及喷砂底座的上平面上,喷砂底座与喷砂压圈之间通过固定装置连接。喷砂上盖包括握把、平板、排气孔、支撑脚架和夹紧脚架五个部分,支撑脚架支撑在靶面上平面且底部有圆角,夹紧脚架夹紧在靶材侧面且底部有圆角。压圈包括压板和安装孔两个部分,底座分为支撑板、安装孔和U型槽三个部分,安装孔和安装孔轴心共线。还设置有喉箍,其包括钢圈和调节螺钉两个部分,钢圈套在夹紧脚架的外侧。

本实用新型的有益效果为:

1、实现了靶材喷砂区较高的粗糙度要求。

2、该工装可反复多次利用,且参数不变的情况下每次喷砂完成后,喷砂区的外观,粗糙度等状态均为一致。

3、该工装操作简单、效率明显,工人上手操作比较容易,借助工装,可以避免误差;

4、该工装在增大了喷枪压力的同时,通过喷砂上盖的结构的改变,避免了砂粒进入盖子内部对靶面造成划伤。

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