[实用新型]磁透镜及电子聚焦设备有效
| 申请号: | 201821588279.X | 申请日: | 2018-09-27 |
| 公开(公告)号: | CN209104114U | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
| 发明(设计)人: | 张国万;王增斌 | 申请(专利权)人: | 北京量子体系科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/141 | 分类号: | H01J37/141 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何倚雯 |
| 地址: | 100193 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 磁场组件 磁透镜 电子源 磁场线圈组 电子聚焦 磁场 电流通断 发射电子 正交设置 出射 成像 申请 聚焦 汇聚 | ||
1.一种磁透镜,其特征在于,所述磁透镜包括:
电子源,用于发射电子;
磁场组件,设置于所述电子源的出射路径上,且至少包括两正交设置的磁场线圈组,其中,通过控制所述磁场组件中所述磁场线圈组的电流通断产生磁场,以使得所述电子在所述磁场的作用下汇聚于所述磁场组件远离所述电子源的一侧。
2.根据权利要求1所述的磁透镜,其特征在于,通过改变所述磁场线圈组中所述电流的大小,以使得所述电子汇聚于所述磁场组件远离所述电子源一侧的不同位置。
3.根据权利要求1所述的磁透镜,其特征在于,所述磁场线圈组件包括两平行且连通的共轴圆形线圈。
4.根据权利要求3所述的磁透镜,其特征在于,所述共轴圆形线圈之间的距离等于所述共轴圆形线圈的半径,以使得所述磁场线圈组在其中心轴线附近产生均匀的磁场。
5.根据权利要求1所述的磁透镜,其特征在于,所述磁场线圈组包括两平行且连通的共轴方形线圈。
6.根据权利要求5所述的磁透镜,其特征在于,所述共轴方形线圈之间的距离等于所述共轴方形线圈的中心距离所述方形线圈四边的距离,以使得所述磁场线圈组在其中心轴线附近产生均匀的磁场。
7.根据权利要求3或5所述的磁透镜,其特征在于,所述磁场线圈组中通入电流的方向一致,大小相同。
8.根据权利要求1所述的磁透镜,其特征在于,所述磁场组件包括三组正交设置的磁场线圈组,所述三组正交设置的磁场线圈组在电流的作用下,分别产生三个磁场方向正交设置的磁场。
9.根据权利要求1所述的磁透镜,其特征在于,所述电子的出射速率及出射角度不相同。
10.一种电子聚焦设备,其特征在于,所述电子聚焦设备包括权利要求1-9中任一所述的磁透镜,所述磁透镜用于对电子实现聚束和成像。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京量子体系科技股份有限公司,未经北京量子体系科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821588279.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:高分辨率X射线影像增强器
- 下一篇:具有多层等离子体侵蚀保护的制品





