[实用新型]过滤装置

说明书

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种过滤装置。所述过滤装置包括：过滤器，包括输入端以及与所述输入端相对的输出端，用于对自所述输入端输入的液体进行过滤；吹扫部，用于自所述输入端向所述过滤器传输吹扫气体，以将所述过滤器内的残留液体自所述输出端排出。本实用新型加速了过滤器内部残留液体的排出速度，缩短了过滤装置的维护时间，减少了人力成本。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种过滤装置。

背景技术

随着平面型闪存存储器的发展，半导体的生产工艺取得了巨大的进步。但是最近几年，平面型闪存的发展遇到了各种挑战：物理极限、现有显影技术极限以及存储电子密度极限等。在此背景下，为解决平面闪存遇到的困难以及追求更低的单位存储单元的生产成本，各种不同的三维(3D)闪存存储器结构应运而生，例如3D NOR(3D或非)闪存和3D NAND(3D与非)闪存。

其中，3D NAND存储器以其小体积、大容量为出发点，将储存单元采用三维模式层层堆叠的高度集成为设计理念，生产出高单位面积存储密度、高效存储单元性能的存储器，已经成为新兴存储器设计和生产的主流工艺。

在3D NAND存储器的制造过程中，经常需要使用各种类型的化学药液来对半导体衬底或者器件结构进行处理。为了避免在采用化学药液对半导体衬底或是器件结构进行处理的过程中引入杂质，并提高化学药液处理的效果，通常在将化学药液传输至反应腔室前，需要采用过滤装置对化学药液进行过滤。然而，随着使用时间的延长，过滤装置内的过滤器性能会降低，此时，则需要对过滤器进行更换。但是，现有的过滤装置由于其结构的限制，更换过滤器的操作繁琐、时间较长，而且极易对反应腔室造成污染。

因此，如何对过滤装置的结构进行改进，以简化过滤器的更换操作，减少人力成本的浪费，是目前亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种过滤装置，用于解决现有的过滤装置由于其结构的限制导致的维护时间长、人力成本高的问题。

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种过滤装置，包括：

过滤器，包括输入端以及与所述输入端相对的输出端，用于对自所述输入端输入的液体进行过滤；

吹扫部，用于自所述输入端向所述过滤器传输吹扫气体，以将所述过滤器内的残留液体自所述输出端排出。

优选的，所述吹扫部包括：

第一管道，一端用于连通存储所述吹扫气体的气源、另一端连通所述输入端，用于向所述过滤器传输所述吹扫气体；

第一控制阀，安装于所述第一管道中，用于控制所述第一管道是否导通。

优选的，还包括：

输入管道，用于向所述过滤器传输待过滤的所述液体；

第二控制阀，安装于所述输入管道中，用于控制所述过滤器与存储待过滤的所述液体的供应源之间是否连通。

优选的，还包括：

输出管道，用于传输过滤后的所述液体；

第三控制阀，安装于所述输出管道中，用于控制所述过滤器与用于接收过滤后的所述液体的接收端之间是否连通。

优选的，还包括：

收集部，与位于所述第三控制阀和所述输出端之间的输出管道连接，用于收集自所述过滤器中排出的由残留的所述液体和所述吹扫气体构成的混合物。

优选的，所述收集部包括：

气液分离器，连通所述输出管道，用于自所述混合物中分离所述液体与所述吹扫气体；