[实用新型]对焦补偿设备有效
| 申请号: | 201821587958.5 | 申请日: | 2018-09-27 | 
| 公开(公告)号: | CN208739260U | 公开(公告)日: | 2019-04-12 | 
| 发明(设计)人: | 桂宇畅 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 | 
| 主分类号: | H04N5/235 | 分类号: | H04N5/235;H04N5/232 | 
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 | 
| 地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 曝光机 镜组 待测物 对焦 量测 本实用新型 补偿信号 对焦补偿 补正 配置 线段 处理模组 对焦条件 曲线生成 通信模组 轴线方向 产品量 测线 线宽 传送 反馈 焦点 | ||
1.一种对焦补偿的设备,其特征在于:所述对焦补偿的设备包含:
一曝光机镜组,具有一焦点;
一待测物平台,配置用以放置一待测物,所述曝光机镜组对所述待测物以多个不同的对焦条件对多个线段的一轴线方向上的多个点进行量测多个线宽,以得到多个量测值;
一处理模组,配置用以将所述多个量测值形成至少一线宽曲线,并依照所述至少一线宽曲线生成一补偿信号;及
一通信模组,配置用以将所述补偿信号传送至所述曝光机镜组,以所述曝光机镜组的一对焦作业进行补正。
2.如权利要求1所述的对焦补偿的设备,其特征在于:所述待测物平台包含一高度调整机构,配置用以将所述待测物平台设置为不同高度,用于将所述待测物置于多个不同焦平面下,并对所述待测物进行量测所述线宽。
3.如权利要求2所述的对焦补偿的设备,其特征在于:所述高度调整机构具有五个不同高度对应于所述曝光机镜组的五个焦平面,所述五个焦平面分别为所述焦点-40微米、所述焦点-20微米、所述焦点、所述焦点+20微米及所述焦点+40微米。
4.如权利要求3所述的对焦补偿的设备,其特征在于:所述处理模组更配置用以将所述焦点处量测的一第一线宽与所述线宽曲线中的最低点处的一第二线宽相减,以得到一补偿值并转换成所述补偿信号。
5.如权利要求4所述的对焦补偿的设备,其特征在于:所述曝光机镜组更包含多个镜组,配置用以同时对所述多个线段的多个轴线方向上的多个点量测所述多个线宽,以得到多个线宽曲线;及
所述处理模组,配置用以通过所述多个线宽曲线得到多个补偿值,以利用所述多个补偿值将所述曝光机镜组对所述多个线段的多个轴线方向上的多个点处的所述对焦作业进行补正。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821587958.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:图像处理系统
- 下一篇:一种加入虚拟效果的AR直播系统





