[实用新型]新型轴向压缩二维平面透镜天线有效
申请号: | 201821512246.7 | 申请日: | 2018-09-13 |
公开(公告)号: | CN208889855U | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 周永宏;洪涛;冯攀;陈星;唐正明 | 申请(专利权)人: | 西华师范大学 |
主分类号: | H01Q15/02 | 分类号: | H01Q15/02;H01Q15/14;H01Q9/30;H01Q19/06;H01Q19/10 |
代理公司: | 成都其高专利代理事务所(特殊普通合伙) 51244 | 代理人: | 廖曾 |
地址: | 637000 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 轴向压缩 透镜 平面透镜 透镜天线 二维平面 反射背板 高阻表面 金属块 围挡 本实用新型 单极子天线 单元实现 电磁能量 辐射增益 金属薄片 平行平板 上下盖板 天线性能 透镜两端 盖板 内导体 波导 天线 汇聚 金属 伸出 辐射 恶化 | ||
本实用新型在此提供一种新型轴向压缩二维平面透镜天线,其特征在于:整个透镜天线分为四个部分:第一部分,由960个高阻表面单元组成的平面透镜及两端的金属块,透镜两端的金属块简化成了金属薄片与第三部分反射背板相接;第二部分,由SMA接头内导体伸出形成的单极子天线;第三部分:反射背板;第四部分就是平行平板波导。本专利用高阻表面单元实现了轴向压缩平面透镜;为了使电磁能量集中从透镜处辐射,从而更好地利用透镜的汇聚效应提高辐射增益,又恰如其分地给透镜添加了金属上下盖板和围挡(不正确地添加盖板和围挡会恶化天线性能),从而实现了高性能轴向压缩平面透镜天线。
技术领域
本实用新型涉及一种天线,具体来讲是一种新型轴向压缩二维平面透镜天线。
背景技术
高阻表面对表面波辐射控制的主要应用领域就是二维透镜天线。因为透镜的形状是通常无法改变的,所以二维透镜天线的小型化通常只能降低其剖面高度。本实用新型另辟蹊径,用推广的离散坐标变换电磁学来压缩平面透镜,再用高阻表面单元来实现压缩透镜的折射率分布,从而实现新型轴向压缩平面透镜天线。目前,要真正实现以上要求,还有如下两个重要问题需要解决:其一,需要将离散坐标变换电磁学由真空推导至连续介质;其二,设计出阻值符合要求的高阻表面单元。
实用新型内容
因此,为了解决上述不足,本实用新型在此提供一种新型轴向压缩二维平面透镜天线;本专利用高阻表面单元实现了轴向压缩平面透镜;为了使电磁能量集中从透镜处辐射,从而更好地利用透镜的汇聚效应提高辐射增益,又恰如其分地给透镜添加了金属上下盖板和围挡(不正确地添加盖板和围挡会恶化天线性能),从而实现了高性能轴向压缩平面透镜天线。
本实用新型将首先给出离散坐标变换电磁学的理论推广;再设计出阻值符合理论要求的高阻表面单元;然后通过HFSS15.0软件进行全波仿真验证;最后对天线的其他部件进行设计并给出天线最终的详细结构、全波仿真和实测结果。
本实用新型是这样实现的,构造一种新型轴向压缩二维平面透镜天线,其特征在于:整个透镜天线分为四个部分:
第一部分,由960个高阻表面单元组成的平面透镜及两端的金属块,透镜两端的金属块简化成了金属薄片与第三部分反射背板相接;
第二部分,由SMA接头内导体伸出形成的单极子天线,内导体半径为r_a=0.65mm,通过大量扫参确定伸出长度为h_a=8mm左右,单极子天线位于平面透镜焦点处,由于凸透镜变换成平面透镜后会导致焦点有些许位移,所以要扫参确定,最终确定的焦距为L=128.5mm;
第三部分:反射背板,这一部分由两部分构成,一部分是单极子天线周围的半圆围挡,距离单极子距离为1/4波长,第二部分是连接半圆围挡到金属薄片之间的金属壁,反射背板的高度即是平行平板波导的净高h=15mm;
第四部分就是平行平板波导,由上、下两块金属底板形成平行平板波导,下金属底板具有矩形缺口,用于镶嵌平面透镜;下金属底板厚度等于介质板厚度d_s=2.54mm,上金属底板净高为h=15mm;信号在SMA接头处以波导端口方式馈入。
本实用新型具有如下优点:本专利用高阻表面单元实现压缩平面透镜,实现了透镜的轻薄化;又将压缩平面透镜用于二维透镜天线设计,实现二维透镜天线的轴向小型化。
另外,仿真及实测结果表明:有平面透镜时,其方向性系数从8.5dBi增加到11.5dBi(仿真值),半功率波束宽度(HPBW)从37°下降为16.5°,充分证明平面透镜起到了相应的相位调整作用。对辐射方向图进行了实测:H面和E面的辐射方向图仿真和实测合得较好,实测阻抗带宽约260MHz,尺寸为 4.35λ*4λ*0.375λ。本工作将高阻表面和推广的离散变换电磁学相结合,实现了二维透镜天线轴向压缩。这是一个全新的方法,同时也对其他二维透镜天线小型化方案有较强的启发意义。
附图说明
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