[实用新型]电浆炬激发装置的水分子供应装置

说明书

本实用新型提供一种电浆炬激发装置的水分子供应装置，包括一火焰出口端形成于电浆炬激发装置的底端，该电浆炬激发装置内具有一水腔室，该火焰出口端固置有一罩体，该罩体具有一提供电浆炬通过的火焰通道，且该罩体内并开设有多个围绕于火焰通道周围的导水孔，所述多个导水孔各自连通于该水腔室与该火焰通道之间，用以供应水分子由该火焰通道喷出，令水分子接触该火焰通道内的电浆炬火焰，以利捕捉F₂气体成为较容易接受水洗过滤的氟化氢(HF)。

技术领域

本实用新型涉及半导体制程废气以电浆炬(Plasma Torch)进行烧结反应后的生成物的捕捉技术，特别是有关于一种电浆炬激发装置的水分子供应装置。

背景技术

周知，半导体制程所生成的废气包含有SiH₄、H₂SiCl₂(DCS)、WF₆、BF₃、NF₃、SF₆、CF₄、C₂F₆C₃F₈等，其中NF₃、SF₆、CF₄、C₂F₆及C₃F₈等归属有害的氟化物(Per FluorinatedCompounds,PFC)，倘若排放至大气中，会造成环境污染，甚至于温室效应，对地球暖化造成严重的影响，因此必须将所述的这些废气处理成无害的气体。

坊间所泛用的半导体废气处理设备，就是用于将上述废气处理成无害的气体。一般而言，已知的半导体废气处理设备都设有废气的反应腔室，半导体制程所生成的废气导入反应腔室内，并且在反应腔室内以燃气火焰、热棒或电浆炬火焰所提供的高温，对所述废气进行烧结(即烧结反应)；特别的，通过高温的烧结反应，可将例如是有害的NF₃、SF₆、CF₄、C₂F₆及C₃F₈等氟化物气体分解成无害的氟离子(F-)，进而达到净化废气的目的。

上述的电浆炬(Plasma torch)是一种能够生成一束定向电浆喷流的高温火焰，电浆炬火焰的温度能够高达3000℃～10000℃，因此常见用于材料加工、熔接、废物处理、陶瓷切割、金属切割及半导体废气烧结等用途上。

且知，所述废气经过燃气火焰、热棒或电浆炬火焰高温烧结处理之后，会于反应腔室内生成F2气体及其他生成物，这些生成物通常需经后段的水洗程序(scrubber)的捕捉及刷洗，使上述生成物能沉积于水中而被过滤筛离。

但是，由于F2气体的分子极小，在已知半导体废气处理设备中所用的水洗程序，其提供的水柱或水滴并无法充分捕捉上述的F₂气体，造成半导体制程废气的净化效率不彰，因此有业者刻意供水(H₂O)进入该反应腔室内，并凭借上述燃气火焰、热棒或电浆炬火焰的高温将水(H₂O)所含带的水分子解离为氢离子(H+)与氢氧离子(OH-)，利用其中的氢离子(H+)与F₂气体结合而形成易溶于水中的氟化氢(HF)，以利于后段水洗程序的捕捉及刷洗。然而，现有半导体废气处理设备的反应腔室中，供应水分子与上述燃气火焰、热棒或电浆炬火焰相互接触的腔室暨空间结构并不理想，乃至于水分子难以瞬间捕捉电浆炬火焰烧结废气后生成F₂气体成为氟化氢(HF)，甚而影响废气中有害物质的净化效率，故亟待加以改善。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的主要目的在于改善传统电浆炬火焰周围欠缺供应充足水分子而影响F₂气体的捕捉效率的问题，进而提供一种电浆炬激发装置的水分子供应装置。