[实用新型]一种适用于单晶硅抛光片目检的暗室

说明书

本实用新型提供了一种适用于单晶硅抛光片目检的暗室，包括室仓和除尘机构，室仓包括多个隔板和推拉门，隔板为沿竖直方向设置的矩形板，多个隔板合围成上下开口的矩形筒体，隔板的上方还设有除尘机构；除尘机构包括风机过滤单元、化学过滤器和离子棒，化学过滤器设置于室仓的顶部开口处，风机过滤单元和离子棒还分别固定于化学过滤器的两侧，风机过滤单元设置于室仓的外部，离子棒设置于室仓的内部；化学过滤器包括盒体和设置于盒体内的活性炭，盒体的上下两面还分别设有进风通孔和出风通孔，离子棒固定于出风通孔处。本实用新型保障了硅片不受到颗粒、AMC的污染，使目检工作有效进行。

技术领域

本实用新型属于硅抛光片的生产领域，具体涉及一种适用于单晶硅抛光片目检的暗室。

背景技术

硅片在生产加工中硅片的正面需要通过二到三步从粗到细的化学机械抛光过程来实现表面的镜面状态，抛光面上用来生长芯片电路，所以要求表面不能存在微小的划伤、凸起、微粒、沾污等缺陷。抛光硅片的表面洁净度也是产品最为关键的质量参数之一，即使存在亚微米级别微量污染也会导致后续器件加工失效。硅片经过化学机械镜面抛光后，表面会残留抛光液、抛光蜡杂质颗粒，需要经过湿法清洗去除杂质颗粒，清洗后还需进行强光下的人工目视检查，挑出微粒、沾污、划道、亮点等缺陷。

被目检的硅片裸露在环境中，如果环境空气中存在灰尘，它会飘落在洁净的硅片表面，造成硅片表面颗粒超标，因此对目检环境要求极为苛刻，需要在环境颗粒受控的房间进行，这种房间称为洁净间。洁净间的级别从一级到一万级，级数对应的是单位体积空气中含有的颗粒数目，通常目检环境要求最高级别的一级洁净度。

使用过滤器对空气中的悬浮颗粒进行过滤可以达到净化空气的目的，但空气快速通过过滤器时会因和滤网材料摩擦产生大量静电，导致目检工作台面、目检相关器具因静电吸附颗粒，降低了目检场所的洁净度。

在空气中除了悬浮的颗粒，还有以气相和蒸汽形式存在的分子级污染物（Airborne Molecular Contaminants,AMC）,AMC的来源有汽车尾气、雾霾、工厂排放的废气污染，硅片对其极其敏感，它和颗粒一样也会危害硅片。但AMC的粒径通常只有0.2~5nm，能顺利穿透高效过滤器，现有的洁净棚没有考虑半导体行业的特殊性，只具有微米级颗粒过滤功能，所以不能对尺寸更小的纳米级AMC进行拦截，往往造成硅片品质的下降。

目检环境要求暗光背景，以提高人眼对硅片表面微小缺陷反光的敏感度，国标规定的硅片目检背景光强范围是50~650勒克斯，而现有的洁净棚往往采用透明防静电PVC帘做为洁净棚和外界的隔离，周边的大环境照明光源会穿透PVC帘进入洁净棚，使背景光强超出规定的范围，干扰了目检人员的判断，容易发生缺陷的漏检。

实用新型内容

为解决上述问题，本实用新型提供了一种适用于单晶硅抛光片目检的暗室，为目检工作提供洁净、防静电、暗光的工作环境，保障了硅片不受到颗粒、AMC的污染，提高目检人员对缺陷的敏感度，使目检工作有效进行。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案为：

一种适用于单晶硅抛光片目检的暗室，其特征在于：包括室仓和除尘机构，所述室仓包括多个隔板和推拉门，所述隔板为沿竖直方向设置的矩形板，多个隔板合围成上下开口的矩形筒体，其中一个隔板上还预留供人进入暗室的入口，所述推拉门设置于暗室的入口处，所述隔板还接有多个支柱，支柱的一端连接于隔板下方的侧边，支柱的另一端放置于地面上，所述隔板与地面之间预留出风间隙，隔板的上方还设有除尘机构；所述除尘机构包括风机过滤单元、化学过滤器和离子棒，所述化学过滤器设置于室仓的顶部开口处，所述风机过滤单元和离子棒还分别固定于化学过滤器的两侧，所述的风机过滤单元设置于室仓的外部，所述的离子棒设置于室仓的内部；所述化学过滤器包括盒体和设置于盒体内的活性炭，所述盒体为矩形壳体，所述隔板垂直固定于盒体的底面，盒体的底面与室仓的顶面为密封连接，所述盒体的上下两面还分别设有进风通孔和出风通孔，所述离子棒固定于所述出风通孔处。