[实用新型]降膜反应头结构有效
| 申请号： | 201821388460.6 | 申请日： | 2018-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN209138287U | 公开（公告）日： | 2019-07-23 |
| 发明（设计）人： | 秦中贤 | 申请（专利权）人： | 重庆山巨化工机械股份有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/18 | 分类号： | B01D53/18 |
| 代理公司： | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 | 代理人： | 王典彪 |
| 地址： | 401147 重庆市渝北区*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反应头 降膜 导流管内壁 侧壁 中心定位块 液膜 设备技术领域 周向均匀分布 本实用新型 从上到下 吸收反应 逐渐增大 导流管 喇叭状 生成液 旋转体 干管 内壁 内开 通腔 行星 开口 贯穿 申请 | ||
【权利要求书】：
1.降膜反应头结构，其特征在于：包括用于使导流管内壁形成液膜的反应头本体，反应头本体内开有贯穿反应头本体上下端的通腔，反应头本体为旋转体，反应头本体的下部呈开口面积从上到下逐渐增大的喇叭状；反应头本体的侧壁上固定有L形限位块，反应头本体的侧壁上固定有至少两个能与导流管内壁接触的中心定位块，中心定位块位于L形限位块的下方且沿降膜反应头的侧壁均匀分布；反应头本体的下部与导流管内壁之间形成用于生成液膜的间隙。
2.根据权利要求1所述的降膜反应头结构，其特征在于：中心定位块远离反应头本体的一侧设置为弧形。
3.根据权利要求2所述的降膜反应头结构，其特征在于：反应头本体下部与导流管内壁之间的间隙宽度设置为0.4-0.8mm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的降膜反应头结构，其特征在于：L形限位块和中心定位块均设有两个，俯视观察，L形限位块和中心定位块分别位于降膜反应头前后左右四个方向。
5.根据权利要求4所述的降膜反应头结构，其特征在于：反应头本体的上部呈管状。
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