[实用新型]一种绝缘栅双极型半导体器件有效
| 申请号: | 201821320354.4 | 申请日: | 2018-08-16 |
| 公开(公告)号: | CN208570614U | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
| 发明(设计)人: | 朱袁正;李宗清 | 申请(专利权)人: | 无锡新洁能股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/739;H01L21/331 |
| 代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良 |
| 地址: | 214131 江苏省无锡市滨湖区高浪东路999号*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 导电类型 柱区 沟槽栅电极 绝缘栅双极型半导体 第一导电类型 本实用新型 发射极金属 不连通 电性 体区 半导体器件 绝缘介质层 导通损耗 低浓度区 短路电流 高浓度区 规则分布 降低器件 交界处 耐压 主面 隔离 延伸 制造 | ||
1.一种绝缘栅双极型半导体器件,包括有源区,所述有源区包括若干个相互并联的器件元胞单元,
在所述器件元胞单元截面方向上,包括半导体基板,所述半导体基板具有两个相对的主面,所述主面包括第一主面和第二主面,在所述半导体基板第二主面上依次设置有第二导电类型集电区和集电极金属,且所述第二导电类型集电区与集电极金属欧姆接触;其特征在于,所述半导体基板包括靠近第一主面的第一导电类型高浓度区及与其紧邻的第一导电类型低浓度区;在所述第一导电类型高浓度区内,设置有规则分布的第二导电类型柱区,第二导电类型柱区从半导体基板第一主面沿半导体基板厚度方向延伸至第一导电类型高浓度区与第一导电类型低浓度区交界处附近;所述第二导电类型柱区具有相同的宽度、相同间距和相同的杂质浓度;在相邻的两个第二导电类型柱区之间的半导体基板第一主面,设置有第二导电类型体区和被第一绝缘介质层包围的沟槽栅电极,第二导电类型柱区和第二导电类型体区分别紧邻被第一绝缘介质层包围的沟槽栅电极两侧,且所述第二导电类型柱区和第二导电类型体区在任何方向上互相电性不连通;第二导电类型柱区紧邻被第一绝缘介质层包围的沟槽栅电极,且包裹被第一绝缘介质层包围的沟槽栅电极底部靠近第二导电类型柱区一侧;
在所述半导体基板第一主面上设置有与所述第二导电类型体区、第一导电类型发射极欧姆接触的发射极金属,所述第二导电类型柱区与发射极金属之间被第二绝缘介质层隔离,且第二导电类型柱区与发射极金属在任何方向上互相电性不连通。
2.根据权利要求1所述的一种绝缘栅双极型半导体器件,其特征在于,所述第一导电类型高浓度区的杂质浓度大于第一导电类型低浓度区的杂质浓度。
3.根据权利要求1所述的一种绝缘栅双极型半导体器件,其特征在于,所述第二导电类型集电区可设置为连续或不连续。
4.根据权利要求1所述的一种绝缘栅双极型半导体器件,其特征在于,在所述第一导电类型低浓度区和第二导电类型集电区之间设置有第一导电类型缓冲层。
5.根据权利要求1所述的一种绝缘栅双极型半导体器件,其特征在于,所述半导体基板的材料包括硅。
6.根据权利要求1所述的一种绝缘栅双极型半导体器件,其特征在于,对于N型IGBT器件,所述第一导电类型为N型导电,所述第二导电类型为P型导电;对于P型IGBT器件,所述第一导电类型为P型导电,所述第二导电类型为N型导电。
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