[实用新型]一种3D打印用准直均匀的光源系统及打印系统有效

专利信息
申请号: 201821246102.1 申请日: 2018-08-03
公开(公告)号: CN208962477U 公开(公告)日: 2019-06-11
发明(设计)人: 杨清 申请(专利权)人: 上海梓域材料科技有限公司
主分类号: B29C64/129 分类号: B29C64/129;B29C64/264;B33Y30/00
代理公司: 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 代理人: 王金宝
地址: 201100 上海市闵*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光源系统 掩膜 光源 图文显示区域 本实用新型 打印系统 准直 打印 发射光束方向 动态扫描 发射光束 反射装置 光源装置 激光光束 距离增大 能量差异 能量集中 逐点扫描 传统的 准直度 光点 激光 扫描 覆盖
【权利要求书】:

1.一种3D打印用准直均匀的光源系统,其特征在于,包括:能够发射光束的光源装置,用于改变光源所发射光束方向的反射装置,所述光源为激光;其中反射装置包括:反射光束的线状反射单元,使得掩膜上的光点动态扫描成线,作用于线状反射单元的面状反射单元,使得线状反射单元反射得到的成线的光点动态扫描成面;线状反射单元为旋转反射装置,旋转反射装置为棱柱体,其侧边设有用于反射光束的若干反射面,各反射面是形状大小完全相同的矩形,呈环状设置于旋转反射装置侧面的外表面,其以棱柱体的轴心为旋转中心进行旋转,使得旋转反射装置在旋转或者反射面摆动时,经反射面反射的光点能够动态扫描掩膜。

2.根据权利要求1所述的一种3D打印用准直均匀的光源系统,其特征在于,线状反射单元通过旋转得到光点扫描成线,面状反射单元为用于同步移动旋转反射装置和光源的横向位移往复机构,使得光束对于旋转反射装置的入射角度不变,并且横向位移往复机构往复运动时掩膜上线状扫描光点动态扫描成面;

或者,面状反射单元为摆动位移往复结构,用于改变光束与旋转反射装置入射角度的摆动位移往复机构,使得旋转反射装置在旋转同时扇形摆动。

3.根据权利要求1所述的一种3D打印用准直均匀的光源系统,其特征在于,线状反射单元通过反射面摆动得到光点扫描成线时,面状反射单元为旋转驱动机构,使得旋转反射装置在旋转驱动机构作用下旋转。

4.根据权利要求1所述的一种3D打印用准直均匀的光源系统,其特征在于,旋转发射装置数量为一个以上,每个旋转反射装置反射一个光源的光束,旋转反射装置依次设置,使得掩膜上扫描成线的光点组成扫描面。

5.根据权利要求1所述的一种3D打印用准直均匀的光源系统,其特征在于,光源数量为一个以上,同一时刻各光源发射的光束对于反射面具有不同的入射方向。

6.一种3D打印系统,其特征在于,包括权利要求1~5任一项所述的光源系统,以及掩膜及料槽,并且光源系统、掩膜、料槽依次设置,使得光束穿过掩膜照射到料槽内的光敏材料上。

7.根据权利要求6所述的一种3D打印系统,其特征在于,光源系统与掩膜间设有折射层装置,使得光束穿过折射层装置后与掩膜垂直。

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