[实用新型]一种隔热装置及设有该隔热装置的MOCVD设备有效

专利信息
申请号: 201821205931.5 申请日: 2018-07-27
公开(公告)号: CN208776870U 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 张虎威 申请(专利权)人: 东泰高科装备科技(北京)有限公司
主分类号: C30B25/08 分类号: C30B25/08;C30B29/40;C30B29/48
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹;吴欢燕
地址: 102209 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 隔热装置 冷却水管 反射板 支撑板 本实用新型 高温加热区域 从上到下 分层隔热 隔热技术 隔热效率 加热区域 加热效率 间隔设置 有效隔离 两层 与非 冷却 加工
【说明书】:

实用新型涉及隔热技术领域,尤其涉及一种隔热装置及设有该隔热装置的MOCVD设备。该隔热装置包括支撑板、在所述支撑板上从上到下间隔设置的至少一层反射板、以及冷却水管,所述冷却水管设置在所述支撑板与所述反射板之间,和/或所述冷却水管设置在相邻的两层所述反射板之间。本实用新型所述的隔热装置及设有该隔热装置的MOCVD设备,将反射板与冷却水管相结合进行分层隔热,实现了高温加热区域与非加热区域的有效隔离,提升了隔热效率,结构简单,降低了加工难度,同时降低了冷却时对热量造成的损失,进而提升了加热效率。

技术领域

本实用新型涉及隔热技术领域,尤其涉及一种隔热装置及设有该隔热装置的MOCVD设备。

背景技术

金属有机物化学气相沉积,其英文名称为Metal-organic Chemical VaporDeposition,缩写为MOCVD,是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种化学气相沉积工艺,用于生长外延晶片。它是以III族、II族元素的有机化合物和V、Ⅵ族元素的氢化物等作为晶体生长的反应气体,以热分解反应方式在蓝宝石衬底或其他衬底上进行外延沉积工艺,生长各种III-V族、II-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固溶体的外延材料层。通常MOCVD的生长条件是在低压(1000-10000pa)下进行,生长使用的载气(通常为N2或H2)与原料气体按一定比例混合通入反应腔内,衬底温度一般在700-1500K之间。

目前,现有的MOCVD设备中的隔热装置,其结构形式较为有限,主要是在腔室壁上设置水道进行冷却隔热,然而这种隔热方式存在以下几点缺陷:1、在冷却的同时,消耗了加工功率,无法维持正常的加工功率;2、水道结构复杂,加工难度大。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型的目的是提供一种隔热装置及设有该隔热装置的MOCVD设备,能够实现高温加热区域与非加热区域的有效隔离。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种隔热装置,包括支撑板、在所述支撑板上从上到下间隔设置的至少一层反射板、以及冷却水管,所述冷却水管设置在所述支撑板与所述反射板之间,和/或所述冷却水管设置在相邻的两层所述反射板之间。

进一步地,各所述反射板通过连接件与所述支撑板连接固定。

具体地,所述连接件包括螺柱,所述螺柱的一端与所述支撑板相连,所述螺柱另一端穿过各所述反射板与固定螺母相连。

具体地,所述螺柱与所述反射板之间设有间隙,在每相邻的两层所述反射板之间设有隔离环,所述隔离环套设在所述螺柱上。

具体地,所述反射板采用镜面不锈钢制成。

具体地,所述冷却水管呈S形布置。

本实用新型提供了一种MOCVD设备,至少包括上述的隔热装置。

具体地,所述隔热装置设置在反应腔室或预加热腔室中。

具体地,所述反应腔室中还设有加热装置和载板,所述加热装置、载板和隔热装置从上到下依次间隔设置在所述反应腔室中。

具体地,所述加热装置为加热灯管。

(三)有益效果

本实用新型的上述技术方案具有如下优点:

本实用新型提供的隔热装置及设有该隔热装置的MOCVD设备,将反射板与冷却水管相结合进行分层隔热,构成有效的温度梯度,实现了高温加热区域与非加热区域的有效隔离,提升了隔热效率,在保证加热区域的正常运行同时,能够有效保证非加热区域的温度维持在正常温度。

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