[实用新型]一种研磨机构有效
申请号: | 201821173999.X | 申请日: | 2018-07-23 |
公开(公告)号: | CN208557105U | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 郝涛;赵武彦;彭荣根;王腾毅;吴术爱;夏后雨;梁文海 | 申请(专利权)人: | 翔声科技(厦门)有限公司 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B37/34 |
代理公司: | 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222 | 代理人: | 杨玉芳;杨唯 |
地址: | 361000 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 研磨机构 调整环 固定垫 上磨盘 下磨盘 软金属层 升降装置 硬脆材料 保护垫 磨盘 容腔 本实用新型 研磨均匀度 工件研磨 研磨表面 磨料区 容置区 砂带 损伤 驱动 移动 配合 保证 | ||
本实用新型提供了一种研磨机构,涉及研磨技术领域。其中,这种研磨机构,用于对硬脆材料表面的软金属层进行研磨,包括机架、设置在机架上的上磨盘、下磨盘和升降装置,下磨盘的研磨表面设有保护垫,保护垫上放置有具有容腔的调整环,调整环的容腔内从下至上依次设有工件容置区、磨料区以及固定垫,升降装置驱动上磨盘移动至调整环内,并与固定垫接触,以配合下磨盘对工件进行研磨。通过上下两个磨盘对硬脆材料表面的软金属层进行研磨,克服现有的砂带研磨均匀度差的问题,且在上磨盘和工件之间设有固定垫,避免磨盘对工件造成损伤,且保证工件研磨均匀。
技术领域
本实用新型涉及研磨技术领域,具体而言,涉及一种研磨机构。
背景技术
目前,对于硬脆材料表面的软金属层,例如陶瓷基板表面的铜层,一般是通过砂带研磨,砂带研磨是以砂带作为磨具并辅以接触轮/张紧轮/驱动轮等磨头主体以及张紧快换机构/调偏机构/喷淋装置等功能部件共同完成对工件的加工过程。其工作原理为:将砂带套在驱动轮/张紧轮的外表面上,并使砂带张紧和高速运行,根据工件实际厚度以及要求,调整相应间隙和适当研磨速度。砂带高速旋转以对加工件进行切削减薄,并通过更换不同目数砂带进行研磨抛光。
本申请的发明发发现,在研磨时输送皮带及接触轮具有一定弹性,导致容易引起研磨面的前后边缘部分偏薄,即使转换方向也是此种现象,导致加工件中间高四周低,均匀度较差。另,砂带主要是由粘结剂与布和磨料制成的一种带状工具,在研磨中会因与加工件的摩擦及自身的粘合等问题致使少量或部分磨料掉落,又因砂带的转动挤压导致加工件表面有较多可见划痕。
实用新型内容
本实用新型提供了一种研磨机构,旨在改善对硬脆材料表面的软金属层研磨不均匀的问题。
本实用新型是这样实现的:
一种研磨机构,用于对硬脆材料表面的软金属层进行研磨,包括机架、设置在机架上的上磨盘、下磨盘和升降装置,下磨盘的研磨表面设有保护垫,保护垫上放置有具有容腔的调整环,调整环的容腔内从下至上依次设有工件容置区、游离磨料区以及固定垫,升降装置驱动上磨盘移动至调整环内,并与固定垫接触,以配合下磨盘对工件进行研磨。
进一步地,在本实用新型较佳的实施例中,调整环通过限位支架与机架连接,以限制调整环在径向方向上移动。
进一步地,在本实用新型较佳的实施例中,限位支架包括与机架固定的夹臂,夹臂的夹持端设有滑轮,调整环被夹臂夹持且与滑轮抵接,能够在夹臂内转动。
进一步地,在本实用新型较佳的实施例中,夹臂的夹持端为弧形。
进一步地,在本实用新型较佳的实施例中,工件容置区内还套设有治具,工件设置治具内。
进一步地,在本实用新型较佳的实施例中,保护垫的材质为聚氨酯。
进一步地,在本实用新型较佳的实施例中,游离磨料区内的磨料为氧化硅浆料或碳化硅粉。
进一步地,在本实用新型较佳的实施例中,上磨盘和下磨盘均为硬质磨盘。
本实用新型的有益效果是:本实用新型通过上述设计得到的研磨机构,使用时,改变现有的砂带研磨的方式,通过上下两个磨盘对硬脆材料表面的软金属层进行研磨,克服现有的砂带研磨均匀度差的问题。在下磨盘表面设有保护垫,能够保护工件免受损伤。研磨时,上磨盘转动带动调整环、固定垫、工件发生转动,工件与游离磨料区的磨料发生磨擦,从而对工件表面进行研磨,研磨均匀度好、表面损伤小。此外,在上磨盘和工件之间设有固定垫,避免磨盘对工件造成损伤,进一步保证工件的研磨精度。
附图说明
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