[实用新型]一种沉积缸清洗装置及离心沉积机

说明书

本实用新型公开了一种沉积缸清洗装置及离心沉积机，包括固定支架和清洗组件，其中，所述固定支架上固定设置有直线驱动机构，所述直线驱动机构用于驱使所述清洗组件进行直线运动；所述清洗组件包括壳体，所述壳体上设置有可360°转动且内部中空的喷头，所述喷头的转动方向与所述清洗组件的直线运动方向垂直。该沉积缸清洗装置操作简单，节省了人工且清洗效率高。

技术领域

本实用新型涉及沉积技术领域，尤其涉及一种沉积缸清洗装置及离心沉积机。

背景技术

随着生产技术日益月新，生活水平不断提高，对电子产品功能不断革新换代，必将导致电子元件需求量不断增加，其中电子产品中使用了大量的片式电容、电阻、电感。由于电子产品的功能增多，迫使元器件的体积要求也越来越小，微型化的元器件也随之诞生，传统的0805、0603已不能满足电子产品的要求，0402、0201及更小尺寸的电子元件已经成为主流的元器件产品，以满足体积小、功能多的各种电子产品的需求。为提高耐磨性、抗氧化性等性能，一般需要对电子元件进行沉积处理，使得金属离子沉积于电子元件的表面。

电子元件在每次进行沉积处理前，都需要对沉积缸进行清洗。目前都是人工对沉积缸进行清洗，浪费人力，且效率低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种沉积缸清洗装置及离心沉积机，用以解决现有技术中的问题。

为解决上述问题，本实用新型提供了：一种沉积缸清洗装置，包括固定支架和清洗组件，其中，所述固定支架上固定设置有直线驱动机构，所述直线驱动机构用于驱使所述清洗组件进行直线运动；

所述清洗组件包括壳体，所述壳体上设置有可360°转动且内部中空的喷头，所述喷头的转动方向与所述清洗组件的直线运动方向垂直。

作为上述技术方案的进一步改进，所述喷头的横截面呈圆形，所述喷头的侧面及底部均设置有出水孔。

作为上述技术方案的进一步改进，所述直线驱动机构和所述清洗组件之间设置有提盖机构；

所述提盖机构用于提起沉积缸的缸盖。

作为上述技术方案的进一步改进，所述提盖机构包括安装板、卡爪组件和用于驱动所述卡爪组件的动力单元；

所述直线驱动机构和所述清洗组件分别安装于所述安装板的两侧；

所述动力单元固定于所述安装板上，并位于靠近所述清洗组件的一侧；

所述卡爪组件位于所述动力单元和所述清洗组件之间。

作为上述技术方案的进一步改进，所述卡爪组件包括套筒和位于所述套筒内部的活动爪，其中，所述套筒的侧壁上设置有与所述活动爪相对应的通孔；

所述套筒内设置滑动设置有活动芯，所述活动芯用于在所述动力单元的驱动下驱使所述活动爪伸出所述通孔。

作为上述技术方案的进一步改进，所述活动芯上设置横截面自上而下逐渐减小的推伸部，所述活动爪与所述推伸部的侧壁相接触；

所述动力单元用于驱使所述活动芯进行直线运动，所述活动芯的运动方向与自身的横截面相垂直；

所述活动爪的下表面与所述壳体的上表面相贴合且滑动连接，所述活动爪的活动方向与所述活动芯的直线运行方向垂直。

作为上述技术方案的进一步改进，所述套筒内设置复位件，所述复位件用于提供复位作用力使所述活动爪缩回所述套筒内。

作为上述技术方案的进一步改进，所述固定支架上设置有直线轴承；

所述安装板上固定设置有与所述直线轴承一一对应的导向轴，所述导向轴与所述直线轴承滑动连接；

所述导向轴与所述清洗组件的直线运动方向平行。