[实用新型]一种金属溅射系统中的阻隔式控制装置

说明书

本实用新型提供了一种金属溅射系统中的阻隔式控制装置，包括挡板单元、棒状金属、电源、电源控制器、频率计和多个石英晶片，其特征在于，所述挡板单元与所述电源通过导线相连，所述电源与所述频率计分别通过导线与所述电源控制器相连；所述多个石英晶片设置于同一条直线上，所述棒状金属与所述多个石英晶片的位置相对固定,且所述棒状金属与所述石英晶片互相平行；所述挡板单元设置在所述棒状金属与所述石英晶片之间；所述频率计用于获取所述石英晶片的频率数据，并通过所述电源控制器指示所述挡板单元在所述棒状金属与所述石英晶片之间移动。本实用新型通过改变挡板方向来调整金属离子溅射量，从而增加石英晶片频率的一致性。

技术领域

本实用新型属于离子流流量控制技术领域，尤其涉及一种金属溅射系统中的阻隔式控制装置。

背景技术

在石英晶体谐振器和振荡器用的石英晶片电极的形成过程中，需要在真空状态下给晶片的两面各镀上一层金属膜形成电极以便导电。金属真空溅射系统则是在真空状态下同时给大量晶片的两面各镀上一层金属电极膜的极佳系统。

通常情况下，金属真空溅射系统是在真空状态、高电压和高温下将金属材料融解后形成带电荷的金属离子流，然后金属离子流在真空空间的单向强电磁场的作用下冲向并附在大量石英晶片的表面，同时形成大量的金属电极膜。由于同时对大量晶片进行溅射镀膜，离棒状金属离子源中间部位近的石英晶片要比离棒状金属离子源中间部位远的石英晶片获得更多的金属离子，从而增加了这些获得更多金属离子的晶片的有效厚度。这样就使得大量在同时溅射电极膜时候的晶片于晶片之间的频率相差较大，变差较大，频率特性的一致性较差。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于在溅射电极膜时候的晶片与晶片之间的频率相差较大，变差较大导致频率特性的一致性较差。

为解决上述技术问题，本实用新型是这样实现的，一种金属溅射系统中的阻隔式控制装置，包括挡板单元、棒状金属、电源、电源控制器、频率计和多个石英晶片，其特征在于，

所述挡板单元与所述电源通过导线相连，所述电源与所述频率计分别通过导线与所述电源控制器相连；

所述多个石英晶片设置于同一条直线上，所述棒状金属与所述多个石英晶片的位置相对固定,且所述棒状金属与所述石英晶片互相平行；

所述挡板单元设置在所述棒状金属与所述石英晶片之间；

所述频率计用于获取所述石英晶片的频率数据，并通过所述电源控制器指示所述挡板单元在所述棒状金属与所述石英晶片之间移动。

进一步地，所述挡板单元包括挡板主体、转轴、方向控制器和微型电机；

所述挡板主体与所述方向控制器通过转轴相连，所述方向控制器通过导线与所述微型电机相连，所述微型电机通过导线与所述电源相连；

所述方向控制器可通过所述转轴变换所述挡板主体的角度来对所述挡板主体进行移动。

进一步地，所述挡板主体的结构为网状结构。

进一步地，所述棒状金属的材质包括：银、铬、铁或铜。

本实用新型中的金属溅射系统中的阻隔式控制装置与现有技术相比，有益效果在于：通过挡板来减少棒状金属的金属离子溅射量，通过调整金属离子溅射量来使得石英晶片的金属镀膜平均，从而增加石英晶片频率的一致性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例中金属溅射系统中的阻隔式控制装置的示意图。