[实用新型]一种传感器调节装置及腔室

说明书

本实用新型提供的传感器调节装置及腔室，包括：底座；导轨，所述导轨水平设置，且固定在所述底座上；滑块，所述滑块与所述导轨连接，且能够沿所述导轨滑动，传感器与所述滑块连接；调节机构，用于驱动所述滑块沿所述导轨滑动，且在所述滑块到达预定位置时，锁定所述滑块的位置。本实用新型提供一种调节方式简便，且传感器位置不会发生偏离的传感器调节装置及腔室。

技术领域

本实用新型涉及半导体加工技术领域，具体涉及一种传感器调节装置及腔室。

背景技术

很多半导体工艺通常是在真空环境下进行的。例如：物理气相沉积(PhysicalVapor Deposition,PVD)工艺一般是在密封腔室中进行的，腔室里具有用于支撑衬底的基座，该基座通常包括衬底支承，衬底支承具有布置在其中的电极以在工艺进行过程中将衬底静电吸附在衬底支承上。在某些特定的工艺中，例如靶材预烧工艺或者涂覆工艺，靶材材料通常会沉积在衬底支承上，这可能引起微粒的产生、衬底支承刮坏和处理性能的劣化，因此在进行这些特定工艺时，需要在衬底支承上设置遮蔽盘以防止靶材材料沉积在衬底支承上，而在进行正常工艺时，则将遮蔽盘旋转至一个空余位置，在该空余位置处遮蔽盘不会干扰室内的沉积工艺。

在遮蔽盘的旋转过程中，需要利用多个传感器(通常使用四个反射传感器)检测遮蔽盘和用于承载遮蔽盘的托架的位置，以及检测遮蔽盘和托架在位于空余位置时，是否距离库壁太近或者已经发生碰撞。而且，考虑到不同腔室的差异性以及装配公差，还需要利用传感器调节装置调节各个传感器的位置。

现有的传感器调节装置包括传感器固定件和传感器固定螺钉，其中，多个传感器通过传感器固定件安装在设置在腔室壁中的石英窗上，以能够透过石英窗向腔室内发出信号。并且，在传感器固定件上设置有安装孔，该安装孔为长圆孔，每个传感器通过螺钉安装在传感器固定件上，并且螺钉设置在长圆孔中，在旋松螺钉时，螺钉可以在长圆孔中滑动，从而带动传感器移动，当将传感器移动至相应位置后，再拧紧固定螺钉，即完成调节。

但是，上述传感器调节装置在调节传感器的位置时，需要旋松或者旋紧螺钉，这种调节方式的操作繁琐，而且在位置确定后，旋紧螺钉时会导致传感器发生偏移，从而偏离预定位置。

实用新型内容

因此，本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中传感器调节装置调节方式繁琐，而且在位置确定后，旋紧螺钉时会导致传感器发生偏移，从而偏离预定位置的缺陷，从而提供一种调节方式简便，且传感器位置不会发生偏离的传感器调节装置及腔室。

本实用新型提供一种传感器调节装置，包括：

底座；

导轨，所述导轨水平设置，且固定在所述底座上；

滑块，所述滑块与所述导轨连接，且能够沿所述导轨滑动，所述滑块用于与传感器连接；

调节机构，用于驱动所述滑块沿所述导轨滑动，且在所述滑块到达预定位置时，锁定所述滑块的位置。

所述调节机构包括螺钉，所述螺钉水平设置在所述底座上，且能够围绕其自身轴线旋转；并且，在所述滑块中设置有螺纹孔，所述螺钉与所述螺纹孔相配合；通过顺时针或逆时针旋转所述螺钉，以使所述滑块相对于所述螺钉滑动。

在所述底座中设置有安装孔，用于容纳所述螺钉的一部分，并限定所述螺钉的径向位置。

所述导轨包括：与所述底座固定的固定部和可相对于所述固定部滑动的滑动部，所述滑动部与所述滑块连接。

所述固定部为轨道，所述滑动部位于所述轨道的一侧，且能够沿所述轨道滑动；或者，所述固定部为柱状滑轨，所述滑动部为套设在所述柱状滑轨上的环体，所述环体能够沿所述柱状滑轨滑动，且与所述滑块连接。