[实用新型]一种等离子电解抛光研磨装置

权利要求书

1.一种等离子电解抛光研磨装置，包括配件主体(1)、便拆装组件(2)以及固定组件(3)，其特征在于：所述便拆装组件(2)装配在配件主体(1)上，所述配件主体(1)外端安装有固定组件(3)，所述固定组件(3)设置在便拆装组件(2)内部，且延伸至便拆装组件(2)外端；

所述便拆装组件(2)包括遮盖金属一(21)、滑槽(22)、弹簧(23)、固定块(24)以及遮盖金属二(25)，所述遮盖金属一(21)设置在配件主体(1)外端，所述遮盖金属一(21)内部开设有滑槽(22)，所述滑槽(22)内端固定有弹簧(23)，所述遮盖金属二(25)装配在遮盖金属一(21)内部，且延伸至遮盖金属一(21)上端，所述遮盖金属二(25)安装在配件主体(1)上端，所述遮盖金属二(25)内部装配有固定块(24)，所述固定块(24)穿过遮盖金属二(25)以及滑槽(22)与弹簧(23)相连接，所述滑槽(22)与固定块(24)通过弹簧(23)相连接；

所述固定组件(3)包括夹板(31)、橡胶保护垫(32)、螺栓(33)以及密封垫圈(34)，所述配件主体(1)外端安装有橡胶保护垫(32)，所述橡胶保护垫(32)外端固定有夹板(31)，所述夹板(31)以及橡胶保护垫(32)均安装在遮盖金属一(21)内部，所述夹板(31)以及橡胶保护垫(32)均安装在遮盖金属二(25)下侧，所述遮盖金属一(21)外端装配有螺栓(33)，所述螺栓(33)穿过遮盖金属一(21)与夹板(31)相连接，所述螺栓(33)上设置有密封垫圈(34)，所述密封垫圈(34)安装在遮盖金属一(21)外端。

2.根据权利要求1所述的一种等离子电解抛光研磨装置，其特征在于：所述配件主体(1)包括金属段以及合成树脂段，且金属段设有两个，且两个金属段对称固定在合成树脂段左右两端，所述遮盖金属一(21)设置在合成树脂段外端，所述遮盖金属二(25)装配在合成树脂段上端。

3.根据权利要求1所述的一种等离子电解抛光研磨装置，其特征在于：所述遮盖金属一(21)上端对称开设有两个插槽，所述遮盖金属二(25)安装在两个插槽上端，且延伸至两个插槽内部，且两个插槽外端均等距安装有至少两个滑槽(22)，且至少两个滑槽(22)内端均固定有弹簧(23)。

4.根据权利要求1所述的一种等离子电解抛光研磨装置，其特征在于：所述遮盖金属二(25)前后两端均等距开设有至少两个固定槽，且固定槽装配在滑槽(22)内端，且至少两个固定槽内部均设置有固定块(24)，所述固定块(24)外端延伸入滑槽(22)内部，至少两个所述固定块(24)内端面均呈半球面。

5.根据权利要求1或3所述的一种等离子电解抛光研磨装置，其特征在于：所述固定组件(3)设有两个，两个所述固定组件(3)结构相同，两个所述固定组件(3)对称安装在配件主体(1)前后两端，所述固定组件(3)安装在插槽下侧。

6.根据权利要求1所述的一种等离子电解抛光研磨装置，其特征在于：所述遮盖金属一(21)前后两端对称开设有两个通孔，且通孔设置在夹板(31)外端，且通孔装配在螺栓(33)上，且通孔内壁上安装有内螺纹，所述螺栓(33)外端设置有外螺纹，所述螺栓(33)通过内螺纹以及外螺纹与通孔相连接，所述螺栓(33)通过轴承与夹板(31)相连接。