[实用新型]一种用于二极管制备的清洗机

说明书

本实用新型公开了一种用于二极管制备的清洗机，包括清洗箱，清洗箱内设置有超声波清洗槽，超声波清洗槽内设置有一组自进水口至排水口高度递减呈阶梯状排列的清洗框，各清洗框均设置有一个出水口，各出水口的高度自进水口至排水口递减，清洗水自最高的清洗框依次流至下一高度的清洗框；清洗框内设置有可提出的清洗盘，清洗盘的底部分布有一组清洗孔。本实用新型能够有效解决现有的碱洗工序中，整个工序过程比较繁复，同时需要耗费很高的人力物力，再碱洗的过程中，对各种参数的控制也不容易把握的问题。

技术领域

本实用新型涉及一种用于二极管制备的清洗机，尤其涉及一种用于二极管制备的超声波清洗机。

背景技术

在二极管的制备过程中涉及到清洗工艺，在清洗的工艺过程中，如何达到最好的清洗效果，并能够达到节能环保的目的，是现在生产过程中，需要追求的目标。

现有的清洗过程中，容易造成水资源的浪费，同时会存在清洗不够干净的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种用于二极管制备的清洗机，解决现有的二极管制备过程中，容易造成水资源的浪费及清洗不够干净的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种用于二极管制备的清洗机，包括清洗箱，清洗箱内设置有超声波清洗槽，超声波清洗槽内设置有一组自进水口至排水口高度递减呈阶梯状排列的清洗框，各清洗框均设置有一个出水口，各出水口的高度自进水口至排水口递减，清洗水自最高的清洗框依次流至下一高度的清洗框；清洗框内设置有可提出的清洗盘，清洗盘的底部分布有一组清洗孔。

为了便于提放清洗盘，清洗盘呈方形框状结构，其左右两侧设置有提手。

进一步的，清洗箱内自进水口至排水口设置有一组高度递减的隔离板，隔离板将清洗箱隔离成若干个清洗框，各隔离板均设置有一个出水口，出水口的高度自进水口至排水口逐渐递减，各清洗框的底部水平高度、各清洗盘所处的水平高度、各出水口的水平高度均自进水口至排水口逐渐递减。

为了便于放置清洗盘，清洗框内设置有和清洗盘相适配的安置台阶面，清洗盘架设在安置台阶面上。

为了便于移动清洗箱，清洗箱底部四角各设置有一个万象轮，清洗箱上还设置有推手。

为了便于放置工具，清洗箱的外侧壁设置有若干个工具放置盒。

本实用新型的有益效果：通过在超声波清洗槽内设置高度成阶梯状递减排列的清洗框，使得产品通过超声波达到清洗干净的目的，同时阶梯状排列的清洗框能够保证水自最高的清洗框逐层流至下一高度，以达到充分利用水资源的目的，有效解决现有的二极管制备过程中，容易造成水资源的浪费及清洗不够干净的问题。

以下将结合附图和实施例，对本实用新型进行较为详细的说明。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图，为了便于看清结构，图中除了最高的清洗框内画了清洗盘外，其余各清洗框内省略了清洗盘，同时清洗盘底部的清洗孔省略。

具体实施方式

实施例，如图1所示一种用于二极管制备的清洗机，包括清洗箱1，清洗箱1内设置有超声波清洗槽2，超声波清洗槽2内设置有一组自进水口5至排水口高度递减呈阶梯状排列的清洗框3，各清洗框3均设置有一个出水口4，各出水口4的高度自进水口5至排水口递减，清洗水自最高的清洗框3依次流至下一高度的清洗框3；清洗框3内设置有可提出的清洗盘6，清洗盘6的底部分布有一组清洗孔。

清洗盘6呈方形框状结构，其左右两侧设置有提手7。