[实用新型]一种用于二极管制备的清洗机有效
| 申请号： | 201820655455.0 | 申请日： | 2018-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN208357367U | 公开（公告）日： | 2019-01-11 |
| 发明（设计）人： | 黄发良;黄祥旺;黄志和 | 申请（专利权）人： | 黄山市弘泰电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B13/00 |
| 代理公司： | 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 | 代理人： | 李振泉;杨大庆 |
| 地址： | 245614*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗框 超声波清洗槽 本实用新型 二极管 出水口 进水口 排水口 清洗机 清洗盘 制备 阶梯状排列 高度递减 工序过程 碱洗工序 人力物力 有效解决 清洗孔 清洗水 清洗箱 碱洗 递减 清洗 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于二极管制备的清洗机，包括清洗箱，其特征在于：清洗箱内设置有超声波清洗槽，超声波清洗槽内设置有一组自进水口至排水口高度递减呈阶梯状排列的清洗框，各清洗框均设置有一个出水口，各出水口的高度自进水口至排水口递减，清洗水自最高的清洗框依次流至下一高度的清洗框；清洗框内设置有可提出的清洗盘，清洗盘的底部分布有一组清洗孔。
2.根据权利要求1所述的用于二极管制备的清洗机，其特征在于：清洗盘呈方形框状结构，其左右两侧设置有提手。
3.根据权利要求1或2所述的用于二极管制备的清洗机，其特征在于：清洗箱内自进水口至排水口设置有一组高度递减的隔离板，隔离板将清洗箱隔离成若干个清洗框，各隔离板均设置有一个出水口，出水口的高度自进水口至排水口逐渐递减，各清洗框的底部水平高度、各清洗盘所处的水平高度、各出水口的水平高度均自进水口至排水口逐渐递减。
4.根据权利要求3所述的用于二极管制备的清洗机，其特征在于：清洗框内设置有和清洗盘相适配的安置台阶面，清洗盘架设在安置台阶面上。
5.根据权利要求4所述的用于二极管制备的清洗机，其特征在于：清洗箱底部四角各设置有一个万象轮，清洗箱上还设置有推手。
6.根据权利要求5所述的用于二极管制备的清洗机，其特征在于：清洗箱的外侧壁设置有若干个工具放置盒。
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