[实用新型]一种蚀刻液存储装置的喷淋器

说明书

本实用新型公开了一种蚀刻液存储装置的喷淋器，包括并列竖直设置的第一喷管、第二喷管，所述第一喷管、第二喷管连接于一阀门，所述阀门连接于入水管；所述第一喷管的上端部设置有第一喷头，所述第二喷管的侧壁上设置有若干第二喷头。本实用新型的蚀刻液存储装置的喷淋器，结构简单，方便操作，通过第一喷管、第二喷管分开设置，从而使第一喷头能够进行直喷，第二喷头能够侧喷，使用时较为方便地向储液装置的罐底以及内侧壁进行喷淋清洗；通过旋拧的方式开启或者关闭阀门，非常方便，并且阀门不易损坏。

技术领域

本实用新型涉及一种蚀刻液存储装置的喷淋器，属于蚀刻液生产设备技术领域。

背景技术

蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。蚀刻液是一种铜版、锌版等印刷凹凸版雕刻用原料，通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。由于蚀刻液属于化学原料，因此在对每一种类蚀刻液进行储存时应避免进入杂质以及其他化学成分。蚀刻液通常存储于存储罐内，在向存储罐内灌入蚀刻液时应保持内部的清洁，避免存储罐内壁上附着有其他化学成分的材料残渣，因此需要对存储罐进行清洗。而现有的清洗都是通过工人手持清洗喷管插入到存储罐内进行喷淋清洗，由于喷管的喷头只能向前方进行直喷，无法进行侧喷，因此便于对存储罐的罐底清洗，但对于内侧壁的清洗却不是特别方便。

实用新型内容

因此，本实用新型的目的在于提供一种能够同时进行直喷和侧喷的蚀刻液存储装置的喷淋器。

为了实现上述目的，本实用新型的一种蚀刻液存储装置的喷淋器，包括并列竖直设置的第一喷管、第二喷管，所述第一喷管、第二喷管连接于一阀门，所述阀门连接于入水管；所述第一喷管的上端部设置有第一喷头，所述第二喷管的侧壁上设置有若干第二喷头；所述阀门包括一竖直设置的筒状阀体，所述阀体的上端封闭，下端设置有外螺纹用于螺接于所述入水管的管口内螺纹上，所述阀体的侧壁上相对设置有两个出水口，每个出水口位置连接有一个水平的侧管，两个所述侧管分别连通于所述第一喷管和第二喷管；两个密封钉分别包括筒状部以及连接于所述筒状部一端的帽部，所述筒状部从阀体内穿过所述出水口并进入所述侧管内，在所述阀体的内侧壁上设置有密封环，所述帽部能够压在所述密封环上，所述筒状部内设置有一压缩弹簧，在所述筒状部的外侧壁上开设有若干过水槽，所述帽部设置有球面型的端面；在所述阀体内部还设置有一圆柱体状阀芯，所述阀芯的下端固定有一连杆，所述连杆与所述入水管相固定；所述阀芯包括自上而下设置的上圆柱部、中间圆柱部、让位槽部以及下圆柱部，所述上圆柱部和下圆柱部的外径与阀体的内径相同，所述中间圆柱部的外径小于所述上圆柱部的外径，所述中间圆柱部能够顶住所述帽部从而使所述帽部压紧所述密封环，所述让位槽部上设置有用于容纳所述帽部的弧形让位槽；在所述阀芯上设置有过水通道，所述过水通道的一个通道口位于所述让位槽部上，另一个通道口位于所述阀芯下端面。

所述连杆的下端固定有一固定板，所述固定板固定于所述入水管的内侧壁，所述固定板上开设有过水口。

采用上述技术方案，本实用新型的蚀刻液存储装置的喷淋器，通过旋拧所述阀体可以调节阀体在入水管的管口上的位置，由于阀芯通过连杆与入水管相互固定，因此也就调节了所述阀芯在阀体内部的相对位置；当阀门关闭时，阀芯的中间圆柱部顶住所述密封钉的帽部，使帽部压紧密封环，出水口封闭；当需要开启阀门时，旋拧阀体使其向下移动，从而使帽部在压缩弹簧的作用下能够向远离所述密封环的方向移动从而顶在让位槽部上，出水口连通。本实用新型的蚀刻液存储装置的喷淋器，结构简单，方便操作，通过第一喷管、第二喷管分开设置，从而使第一喷头能够进行直喷，第二喷头能够侧喷，使用时较为方便地向储液装置的罐底以及内侧壁进行喷淋清洗；通过旋拧的方式开启或者关闭阀门，非常方便，并且阀门不易损坏。