[实用新型]一种基于磁共振成像的光散射测量电路

说明书

本实用新型提供了一种基于磁共振成像的光散射测量电路，控制基于磁共振成像的光散射测量装置进行光散射测量，所述光散射测量电路包括：光源发生器，所述光源发生器电连接所述光散射测量装置；光探测器，所述光探测器电连接所述光散射测量装置；时域跟随器，所述时域跟随器电连接所述光散射测量装置；时域调制器，所述时域调制器电连接所述时域跟随器、并电连接所述光源发生器和所述光探测器中的一者，所述时域跟随器电连接所述光源发生器和所述光探测器中的另一者；处理器，所述处理器电连接所述光探测器、所述光散射测量装置以及所述时域跟随器。光散射测量电路控制并配合光散射测量装置实现对光散射的测量，获得连续光散射强度信号分布图。

技术领域

本实用新型涉及光学技术领域，特别涉及一种基于磁共振成像的光散射测量电路。

背景技术

光散射是指光通过不均匀介质时一部分光偏离原方向传播的现象，偏离原方向的光称为散射光。与光的吸收一样，光的散射也会通过物质的光的强度减弱，光的散射现象在各领域中均由特殊的用处。获得光散射分布图对研究物质特性具有重要的意义。

通常采用光散射测量仪获取光散射分布图，现有技术中光散射测量仪包括探测器、光源装置、样品架以及转动装置，将样品放置在样品架上后，光源直接入射到样品的表面，探测器接收经样品表面散射作用后的反射光束信号，从而获得此状态下的光散射强度信号值，利用特定的转动装置调整探测器、光源装置、样品架中的一者、两者或三者，进而获取不同入射角、不同反射角度以及样品不同表面的光散射强度信号值。通过上述方法，通过获得大量离散的光散射信号值生成的光散射分布图，虽然通过大量次数的转动操作，使得生成的光散射图谱近似连续的，但实际上仍为离散的光散射图谱，无法精确获得样品表面任一位置光散射的信号值，使用的局限性差，并且，在测量过程中通过转动操作耗时长，测量效率低，特别是对于性能不稳定的测量对象或测量条件，测量偏差较大，甚至不能实现有效的测量。

对于本领域技术人员而言，如何利用磁共振成像获得连续的光散射强度分布图，获得有效的信号值是亟待解决的问题之一。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种光散射测量电路，用于控制并配合光散射测量装置实现对光散射的测量，获得连续光散射强度信号分布图。

本实用新型提供的一种基于磁共振成像的光散射测量电路，所述光散射测量电路用于连接产生磁共振光散射分布图的光散射测量装置，所述光散射测量电路包括：

光源发生器，所述光源发生器电连接所述光散射测量装置；

光探测器，所述光探测器电连接所述光散射测量装置；

时域跟随器，所述时域跟随器电连接所述光散射测量装置；

时域调制器，所述时域调制器电连接所述时域跟随器、并电连接所述光源发生器和所述光探测器中的一者，所述时域跟随器电连接所述光源发生器和所述光探测器中的另一者；

处理器，所述处理器电连接所述光探测器、所述光散射测量装置以及所述时域跟随器。

可选地，所述光散射测量电路还包括：

第一门控机构，所述第一门控机构电连接在所述光源发生器与所述光散射测量装置之间；

第二门控机构，所述第二门控机构电连接在所述光探测器与所述光散射测量装置之间。

可选地，所述第一门控机构和所述第二门控机构分别与所述时域跟随器和所述时域调制器对应电连接。

可选地，所述第一门控机构和所述第二门控机构均通过光纤与所述光散射测量装置连接。

可选地，所述光散射测量电路还包括谱仪，所述谱仪电连接在所述处理器和所述光散射测量装置之间。

可选地，所述谱仪通过光纤与所述光散射测量装置连接。