[实用新型]一种氢氧化钾离子膜法生产系统

权利要求书

1.一种氢氧化钾离子膜法生产系统，其特征在于，其包括盐水精制单元、电解槽、脱氯单元、制碱单元、氯气处理单元、氢气处理单元和制酸单元；

所述盐水精制单元的二次盐水贮槽与所述电解槽的进液口连通，所述电解槽的阳极室出液口与所述脱氯单元的氯酸盐分解槽的进液口连通，所述电解槽的阳极室出气口与所述氯气处理单元的氯气总管的进气口连通，所述电解槽的阴极室出液口与所述制碱单元的降膜蒸发器的进液口连通，所述电解槽的阴极室出气口与所述氢气处理单元的氢气总管的进气口连通，所述氯气处理单元的氯气缓冲罐、所述氢气处理单元的氢气缓冲罐均与所述制酸单元的合成炉连通；

所述脱氯单元的脱氯塔出液口与所述配水槽通过管道连通；所述氯气处理单元的氯气洗涤塔出液口、水雾分离器出液口均与所述脱氯单元的阳极排放槽进液口连通；所述氢气处理单元的氢气洗涤塔出液口与所述配水槽进液口连通，所述氢气处理单元的氢气分配台的一个出气口与所述制碱单元的降膜蒸发器换热介质入口连通。

2.根据权利要求1所述一种氢氧化钾离子膜法生产系统，其特征在于，所述盐水精制单元包括所述配水槽、化盐池、第一折流槽、前反应槽、空气混合器、沉降槽、后反应槽、膜过滤器、第二折流槽、一次盐水贮槽、离子交换树脂塔、所述二次盐水贮槽、泥浆槽、洗涤压滤机、NaClO贮槽、第一KOH高位槽、FeCl₃贮槽、K₂CO₃高位槽、第一HCl高位槽和第一K₂SO₃高位槽，所述配水槽的出液口与所述化盐池的进液口连通，所述化盐池的出液口与所述第一折流槽的进液口连通，所述第一折流槽的出液口与所述前反应槽的进液口连通，所述前反应槽的出液口与所述空气混合器的进液口连通，所述空气混合器的出液口与所述沉降槽的进液口连通，所述沉降槽的出液口与所述后反应槽的进液口连通，所述后反应槽的出液口与所述膜过滤器的进液口连通，所述膜过滤器的出液口与所述第二折流槽的进液口连通，所述第二折流槽的出液口与所述一次盐水贮槽连通，所述一次盐水贮槽的出液口与所述离子交换树脂塔的进液口连通，所述离子交换树脂塔的出液口与所述二次盐水贮槽连通；所述沉降槽的泥浆出口与所述泥浆槽的进口连通，所述泥浆槽的泥浆出与所述洗涤压滤机的进口连通，所述洗涤压滤机的出液口与所述配水槽的进液口连通；

所述膜过滤器的再生废水出口和所述离子交换树脂塔的反冲洗口均与所述配水槽的进液口连通；

所述NaClO贮槽的出液口与所述配水槽的进液口连通，所述第一KOH高位槽与所述第一折流槽的进液口连通，所述FeCl₃贮槽与所述沉降槽的进液口连通，所述K₂CO₃高位槽与所述后反应器的进液口连通，所述第一HCl高位槽与所述第二折流槽的进液口连通，所述第一K₂SO₃高位槽与所述一次盐水贮槽的进液口连通。

3.根据权利要求1所述一种氢氧化钾离子膜法生产系统，其特征在于，所述脱氯单元包括所述氯酸盐分解槽、所述阳极排放槽、所述脱氯塔、第二HCl高位槽、第二KOH高位槽和第二K₂SO₃高位槽；所述氯酸盐分解槽的出液口与所述阳极排放槽的进液口连通，所述阳极排放槽的出液口与所述脱氯塔的进液口连通；

所述第二HCl高位槽的出液口与连通所述电解槽和所述氯酸盐分解槽之间的管道连通，所述第二HCl高位槽的出液口还与所述脱氯塔的进液口连通，所述第二KOH高位槽的出液口和所述第二K₂SO₃高位槽的出液口均与连通所述脱氯塔和所述配水槽的管道连通。

4.根据权利要求1所述一种氢氧化钾离子膜法生产系统，其特征在于，所述制碱单元包括所述降膜蒸发器和制片机，所述降膜蒸发器的出液口与所述制片机连通。