[实用新型]一种抛光液供给系统

说明书

一种抛光液供给系统，包括触摸屏、PLC、抛光液搅拌模块、恒温控制模块、抛光液泵送清洗模块、pH值监测模块以及自动报警模块；触摸屏作为系统的人机交互装置，与PLC相连；PLC作为系统的控制核心，根据该触摸屏得到的输入信息，控制抛光液搅拌模块、恒温控制模块、抛光液泵送清洗模块、pH值监测模块以及自动报警模块实现相应的功能；抛光液搅拌模块用于实现抛光液的均匀混合；恒温控制模块用于实现抛光液抛光温度的恒定；抛光液泵送清洗模块采用电动隔膜泵，实现抛光液的定时、定量输送以及抛光液供给系统的清洗；pH监测模块用于检测抛光液的pH值，并在触摸屏上显示；自动报警模块用于在抛光液的液位过低时发出报警并保护系统。具有操作简单，控制方便，运行可靠价格低的优点。

技术领域

本发明涉及化学机械抛光领域，尤其是涉及一种用于化学机械抛光设备中的抛光液供给系统。

背景技术

化学机械抛光(CMP)已成为公认的纳米级全局平坦化精密超精密加工技术。CMP抛光是指在化学试剂及抛光压力的作用下借助磨料的机械去除作用及化学作用去除工件表面的材料，从而获得光学精密表面。抛光液在CMP过程中发挥着重要作用，是化学机械抛光的关键要素之一，在抛光的过程中，抛光液的pH值、温度、施液速度、施液流量等因素对于工件表面质量有至关重要的影响。市场上相关装置只能够实现对抛光液影响因素的部分控制，不易清洗且造价较高。有必要存在一种操作简单，控制方便，运行可靠的抛光液供给系统以满足市场的需要。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供一种低成本，操作简单的抛光液供给系统，它可以代替人工添加抛光液，在触摸屏和PLC的作用下实现时间、流量、速度可控地泵送抛光液。

本发明的技术方案是：一种抛光液供给系统，包括触摸屏、PLC、抛光液搅拌模块、恒温控制模块、抛光液泵送清洗模块、pH值监测模块、自动报警模块。

触摸屏作为系统的人机交互装置，与PLC相连；

PLC作为系统的控制核心，根据该触摸屏得到的输入信息，控制抛光液搅拌模块、恒温控制模块、抛光液泵送清洗模块、pH值监测模块、自动报警模块实现相应的功能；

抛光液泵送清洗模块包括清洗液入口、电磁阀一、电磁阀二、电磁阀三、电磁阀四、电磁阀五、电磁阀六、电磁阀七、电磁阀八、去离子水容器、抛光粉容器、双氧水容器、抛光液容器、旋转清洗喷头、流量计、电动隔膜泵、电动隔膜泵继电器、模拟量输出模块、出水龙头、干粉流量阀、液体流量阀一、液体流量阀二、抛光液出口、以及清洗液出口。

去离子水容器和双氧水容器分别通过液体流量阀二和液体流量阀一与抛光液容器连接，抛光粉容器通过干粉流量阀与抛光液容器连接，抛光液容器通过电磁阀五、流量计与电动隔膜泵相连，通过电磁阀六连接到抛光液出口，通过电磁阀七连接到清洗液出口，清洗液入口通过电磁阀一连接到去离子水容器、通过电磁阀二连接到双氧水容器、通过电磁阀三连接到抛光粉容器和通过电磁阀四连接到旋转清洗喷头。

恒温控制模块包括加热管、冷却管、加热管继电器、冷却管继电器和温度传感器，加热管继电器、冷却管继电器、电动隔膜泵继电器、蜂鸣器均与PLC的输出相连接，由PLC控制其通断，从而控制加热管、冷却管、电动隔膜泵、蜂鸣器的启动与停止。

pH值监测模块包括pH值探头，该pH值探头装在抛光液容器底座上。

自动报警模块包括最低液位传感器、报警液位传感器和蜂鸣器，最低液位传感器和报警液位传感器安装在抛光液容器的侧壁上。

抛光液搅拌模块包括搅拌伺服电机和搅拌棒。

旋转清洗喷头和电磁阀四装在抛光液容器顶端。

搅拌棒、加热管、温度传感器和冷却管装在抛光液容器底座上。