[实用新型]用于由一种或多种液相先驱体生成气溶胶的装置

说明书

本实用新型涉及用于由一种或多种液相先驱体生成气溶胶的装置(1)。该装置(1)包括沉积室(100)、雾化源(10)和用于液体的储液器(20)，其中该储液器(20)设置于沉积室(100)中。该储液器(20)包括从沉积室(100)的侧壁(102)向上延伸至沉积空间(200)中的倾斜外壁(21)，使得该储液器(20)形成于侧壁(102)和倾斜外壁(21)之间；并且沉积室(100)中设置有用于从沉积空间(200)中排出多余气溶胶的气溶胶出口(30)。根据本实用新型的装置，无论所涉及的沉积室的尺寸如何，使得气溶胶沉积都是均匀的。并且，由装置生成的气溶胶可以有效地分布，并使得基底的表面上的涂层均匀。

技术领域

本实用新型涉及用于生成气溶胶的装置，更特别地，涉及用于由一种或多种液相先驱体生成气溶胶的装置。

背景技术

本实用新型涉及用于生成气溶胶的装置，其中术语“气溶胶”意为液体微滴的细雾。本实用新型还涉及用于以在沉积室中生成的气溶胶在沉积室中涂覆基底的装置。

在现有技术中，用于涂覆基底的装置通常为具有这样的沉积室的装置，在该沉积室中，气溶胶射流被引向基底，使得气溶胶射流的微滴被引至待涂覆的基底的表面。这种类型的涂覆通过设置面向待涂覆的基底的表面的雾化器使得气溶胶射流被引向基底的表面上的第一碰撞点、并且随后气溶胶在基底的表面上行进至第二点而实现，在第二点处，尚未参与涂覆过程的气溶胶被移除。

与上述布置相关的缺点是涂层不均匀并且可能因来自雾化器的气溶胶的不均匀分布而在基底的表面上包括条带式效果。同样已知的是，来自于雾化器的气溶胶射流形成具有沉降物区域的沉降物，并且薄膜仅会生成于基底的位于沉降物区域下方的那一部分，因此并非遍及整个基底表面。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供用于生成气溶胶的装置，该装置使气溶胶在基底的表面上均匀分布，使得基底表面上的涂层均匀且无瑕疵。本实用新型的另一目的在于提供这样的装置，其控制气溶胶在较大沉积室中的分布，使得在基底的整个表面上的沉积是均匀的。

本实用新型的目的通过具有下述特征的、用于生成气溶胶的装置实现。以下还公开了本实用新型的优选实施方式。

本实用新型基于以下构思，即提供用于由一种或多种液相先驱体生成气溶胶的装置以及设置使得所生成的气溶胶在沉积室中循环以在基底的表面上提供均匀的涂层的结构。该装置包括沉积室、雾化源、储液器以及气溶胶出口。

在本申请中，术语“气溶胶”除了仅意指气溶胶外还意指作为悬浮于空气中的液体微滴的集合的雾。气溶胶指的是细小的液体微滴在气体中的悬浮液，但在本文中也指涉及含有液体颗粒的混合物的雾，但雾中的液体颗粒的平均尺寸大于气溶胶。液体微滴可能含有一些固体颗粒。

在根据本实用新型的装置中，沉积室包括顶壁和自顶壁延伸的至少一个侧壁并且形成沉积空间。沉积室中设置有雾化源以雾化液相先驱体。根据本实用新型的装置还包括用于液体的储液器，该储液器包括从沉积室的侧壁向上延伸到沉积空间中的倾斜外壁，使得储液器于侧壁和倾斜外壁之间形成。根据本实用新型的装置还包括用于从沉积空间中排出多余气溶胶的、设置于沉积室中的气溶胶出口。

在本实用新型的优选实施方式中，储液器在沉积室中设置为使得在雾化源中形成的气溶胶首先沉积到储液器上，进而使得其散布到整个储液器中，并且当储液器充满时，则气溶胶朝向沉积室的底部下落到待涂覆的基底的表面。来自于储液器的气溶胶沿储液器的倾斜外壁而行，使得其以可控制的方式朝向基底下落。