[实用新型]硅片清洗装置

权利要求书

1.硅片清洗装置，包括底座盘(1)，其特征在于，所述底座盘(1)的底部固定安装有回收箱(2)，所述底座盘(1)的顶部固定安装有两个竖直设置的支撑柱(3)，所述支撑柱(3)的顶部焊接有顶板(4)，所述顶板(4)上转动安装有竖直设置的转动轴(5)，所述转动轴(5)的底部延伸至顶板(4)的下方固定连接有U形架(9)，所述顶板(4)的顶部固定安装有电机(6)，电机(6)的输出轴和转动轴(5)上均套设有皮带轮(7)，皮带轮(7)上设有皮带(8)，所述U形架(9)上滑动安装有多个夹持板(10)，所述U形架(9)上套设有多个弹簧(11)，弹簧(11)位于夹持板(10)之间，所述夹持板(10)上开设有夹持槽(12)，所述底座盘(1)的顶部转动安装有承重柱(13)，所述承重柱(13)的顶部与夹持板(10)固定连接，所述支撑柱(3)上设有放置腔(15)，放置腔(15)内固定安装有分流管(16)，所述分流管(16)上设有喷水装置(17)，所述U形架(9)上设有气缸(14)，气缸(14)的活塞杆与夹持板(10)固定连接。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述回收箱(2)内设有水平设置的过滤网，底座盘(1)上开设有多个流通孔，流通孔位于回收箱(2)的正上方，回收箱(2)的一侧固定连接有出水管，出水管的水平高度高于过滤网的水平高度。

3.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述喷水装置(17)由支管和喷头组成，支管与分流管(16)固定连接，支管的一端延伸至支撑柱(3)的外部与喷头固定连接，支撑柱(3)的一侧设有进水管，进水管与分流管(16)的顶部连通。

4.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述底座盘(1)和顶板(4)上均固定安装有轴承，两个轴承分别套设于转动轴(5)和承重柱(13)上。

5.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述夹持槽(12)为多个，多个夹持槽(12)等距离对称设置于夹持板(10)的顶部与底部。