[实用新型]一种新型研磨抛光工装

说明书

本实用新型公开一种新型研磨抛光工装，包括铝合金衬底、铝盘、万向节从动叉、十字连接件和万向节主动叉，铝合金衬底上设置有用于进行研磨抛光作业的抛光垫层，且铝合金衬底设置于铝盘底部，铝盘顶部与万向节从动叉连接，万向节从动叉与万向节主动叉通过十字连接件连接，万向节主动叉的顶端与抛光机动主轴连接。本实用新型提供的新型研磨抛光工装，与传统的铁笔下压式随动单转方式抛光作业相比，能够实现抛光加工过程中双转研磨抛光，控制抛光过程的压强和速度两个参数，研磨抛光过程中与元件紧贴，受力均匀，有效过滤加工过程中的细碎振动，还实现压强从零开始的线性增加，有利于陶瓷材料研磨抛光过程的稳定和精确控制。

技术领域

本实用新型涉及光学加工技术领域，特别涉及一种新型研磨抛光工装。

背景技术

随着社会经济及工业技术的发展，对于机械装置加工制造精度要求日益提高。

氟化钙透明陶瓷是优异的激光基质材料，透光范围宽，具有稳定的物理化学性质，适合作为激光增益介质光学器件。但是，高功率激光增益介质光学器件对加工精度要求极为严苛，且光学器件往往具有特殊形状(如具有楔角结构或多边形结构等)，如何实现高精度成型成为了加工研究中新的难点与重点。同时，寻找到陶瓷与单晶在抛光过程中的区别，掌握快速波前收敛规律在实现透明陶瓷增益介质高质量、高效率加工中具有重要意义。

在光学元件的研磨和抛光过程中，压强的大小对加工结果有很大的影响。氟化钙陶瓷材料具有脆性、质软的特点，其加工过程中对压强的反应更加敏感。传统的光学加工工艺中使用的工装或研磨抛光盘通常使用的是铁笔下压式随动单转方式，这种方法虽然结构简单，但参数的可控性不高，特别是对影响研磨抛光最重要的压强和速度两个参数，无法实现压强从零线性增加，也无法实现抛光速度的准确控制。

因此，如何提供一种研磨抛光过程稳定且加工精度高的抛光设备，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种新型研磨抛光工装，能够提高研磨抛光过程的稳定性，且加工精度高，大大提高了光学元件加工的成功率同时提高了产品的质量。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种新型研磨抛光工装，包括铝合金衬底、铝盘、万向节从动叉、十字连接件和万向节主动叉，所述铝合金衬底上设置有用于进行研磨抛光作业的抛光垫层，且所述铝合金衬底设置于所述铝盘底部，所述铝盘顶部与所述万向节从动叉连接，所述万向节从动叉与所述万向节主动叉通过所述十字连接件连接，所述万向节主动叉的顶端与抛光机动主轴连接。

优选地，所述十字连接件端部设置有螺纹定位孔，且通过定位轴螺钉分别与所述万向节从动叉和所述万向节主动叉固定。

优选地，所述铝盘与所述铝合金衬底之间还设置有橡胶缓冲层。

优选地，所述万向节从动叉末端设置有螺纹，且所述铝盘顶部设置与所述螺纹配合的螺纹孔。

优选地，还包括铁笔，所述铁笔卡接于所述万向节主动叉顶部。

优选地，所述铁笔端部设置有卡环。

优选地，所述铁笔的杆体上设置有弹簧，且所述弹簧的一端固定于所述铁笔顶部，另一端与所述卡环抵接。