[发明专利]氧化还原装置、气体调节系统及制冷器具

权利要求书

1.一种氧化还原装置(100)，包括：膜电极组件(10)，所述膜电极组件(10)包括：质子交换膜(11)、阳极层(12)、阴极层(13)，所述质子交换膜(11)位于所述阳极层(12)及阴极层(13)之间，所述阳极层用以电解供应至阳极层的水，其特征在于，在所述膜电极组件(10)的阳极层(12)侧设有第一气体扩散层(20)以及阻水层(30)，所述第一气体扩散层(20)位于所述膜电极组件(10)与所述阻水层(30)之间，所述阻水层用以减小输送至阳极层的水量。

2.根据权利要求1所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述阻水层(30)包括导电高分子膜。

3.根据权利要求1所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述阻水层(30)具有孔(31)。

4.根据权利要求1所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述阻水层(30)和所述质子交换膜(11)由相同的材料制成。

5.根据权利要求1所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述阻水层(30)包括疏水层(32)。

6.根据权利要求5所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述阻水层(30)包括第二气体扩散层(33)，所述第二气体扩散层(33)设有所述疏水层(32)。

7.根据权利要求6所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述第一气体扩散层(20)位于所述第二气体扩散层(33)和所述阳极层(12)之间。

8.根据权利要求6所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述疏水层(32)设于第二气体扩散层(33)面向所述阳极层(12)的一侧。

9.根据权利要求1所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述第一气体扩散层(20)设有亲水层(40)。

10.根据权利要求9所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述亲水层(40)设于所述第一气体扩散层(20)面向所述膜电极组件(10)的一侧。

11.据权利要求1所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述第一气体扩散层(20)和阻水层(30)接触。

12.根据权利要求1至11任一项所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，还包括：导流板(50)；所述阻水层(30)设置于所述导流板(50)与所述第一气体扩散层(20)之间。

13.根据权利要求12所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述导流板(50)包括外导流板(52)及内导流板(51)，其中：

所述内导流板(51)位于所述外导流板(52)与所述阻水层(30)之间。

14.根据权利要求13所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述外导流板(52)上设置有若干个第一槽口(521)，所述内导流板(51)上设置有若干个第二槽口(511)，所述第一槽口(521)的延伸方向与所述第二槽口(511)的延伸方向不一致。

15.根据权利要求12所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，还包括固定端板(60)，所述导流板(50)位于所述固定端板(60)与所述阻水层(30)之间。

16.根据权利要求15所述的氧化还原装置(100)，其特征在于，所述固定端板(60)的数目为2个，其中一个固定端板(60)上设置有进气连接口(61)和排气连接口(62)，另一个固定端板(60)上设置有进水连接口(63)和排水连接口(64)。