[发明专利]一种含硅镀层的碱性退镀液及退除方法

说明书

本发明公开了一种含硅镀层的碱性退镀液，其包括如下重量百分数的组分：有机碱6～10％、无机碱5～10％、高效渗透剂3～5％、专用分散剂5～10％、高沸点溶剂1～3％、余量为水。该碱性退镀液与基材表面接触，即可快速退除真空镀膜的含硅镀层。与现有技术相比，本发明的含硅镀层的碱性退镀液可以在加温浸泡的情况下彻底去除不良镀膜层，对工件无损耗及腐蚀，退镀成本低，可以批量退镀，加温浸泡即可操作方便，可以应用于不锈钢基材、铁基合金、铜基合金、铝、镍基合金、玻璃及塑料等等各种基材表面的真空镀膜退除领域，应用广泛。

技术领域

本发明涉及表面处理技术领域，特别涉及一种含硅镀层的碱性退镀液及退除方法。

背景技术

不锈钢真空镀膜PVD方法是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。随着全球制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。从半导体集成电路、LED、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看，对真空镀膜设备、技术、材料需求都在不断增加，包括制造大规模集成电路的电学膜、数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜、充分展示和应用各种光学特性的光学膜、计算机显示用的感光膜、TFT、PDP平面显示器上的导电膜和增透膜、建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜、包装领域用防护膜、阻隔膜、装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜、工、模具表面上应用的耐磨超硬膜、纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等方面，真空镀膜的需求是越来越高。

但是在实际操作中，因为各种因素导致镀膜不良，需要退镀重新处理，传统的退镀一般采用物理喷砂方式，通过喷砂去除表面不合格的PVD镀层，在环保要求的大环境下，易产生粉尘污染，另外喷砂也容易对工件本身造成一定的损耗，生产需要较多操作人员，产能效率低。因此，确有必要开发一种可以通过加温浸泡的方式、完全去除以硅为主的不锈钢PVD镀层的碱性退镀液。

发明内容

本发明的目的在于，针对现有技术的上述不足，提供一种含硅镀层的碱性退镀液及退除方法，可以在加温浸泡的情况下彻底去除不良含硅真空镀膜层，对工件无损耗及腐蚀，退镀成本低，可以批量退镀，加温浸泡即可操作方便。

本发明为达到上述目的所采用的技术方案是：

一种含硅镀层的碱性退镀液，其包括如下重量百分数的组分：有机碱6～10％、无机碱5～10％、高效渗透剂3～5％、专用分散剂5～10％、高沸点溶剂1～3％、余量为水。

优选地，所述的无机碱为氢氧化钾、碳酸钠、三聚磷酸钠中的任意一种或多种混合。

优选地，所述的有机碱为脒类化合物。

优选地，所述的脒类化合物为1,5-二氮杂二环[4.3.0]壬-5-烯。有机碱为1,5-二氮杂二环[4.3.0]壬-5-烯(DBN)的分子式为C7H12N2，属于脒类，具碱性，它可用于脱卤化氢反应及碱催化的重排反应中，类似的一个化合物是1,8-二氮杂二环[5.4.0]十一碳-7-烯(DBU)。可以与含硅镀层很好的结合，结合力强，容易与含硅镀层相融合而退除镀层。DBN可由戊内酰胺与丙烯腈反应生成N-丙烯腈基戊内酰胺，再将氰基还原成氨基，发生分子内脱水环化制取。

优选地，所述的有机碱为4-二甲氨基吡啶、吡啶、N-甲基吗啉中的任意一种或多种混合。

优选地，所述的高效渗透剂为乙二胺四乙酸、聚丙烯酸中任意一种或两种。

优选地，所述的专用分散剂为乙二胺四亚甲基膦酸钠、葡萄糖酸钠中的任意一种或两种。

优选地，所述的高沸点溶剂为乙二醇二丁醚、1,4-丁二醇、异辛醇、庚醇中的任意一种或多种。

一种含硅镀层的退除方法，该方法包括将形成在基材表面的含硅镀层在碱性退镀液中在接触，该碱性退镀液为前述任一项所述的碱性退镀液。