[发明专利]全尺寸掩模组件及其制造方法

说明书

本发明公开一种全尺寸掩模组件。根据本发明的一个实施例的全尺寸掩模组件能够包括：框架，其形成有开口部且具有包围上述开口部的支撑部；结构用辅助掩模，其由上述支撑部所支撑，且具有形成格子形态的多个栅条以形成多个结构用辅助掩模开口部；以及多个单元单位掩模，其由上述结构用辅助掩模所支撑且具备使沉积物质通过的沉积图案部。

技术领域

本发明涉及一种全尺寸掩模组件及其制造方法，更具体地讲，涉及一种用于在基板上沉积沉积物质的全尺寸掩模组件及其制造方法。

背景技术

在各种显示器件中，有机发光显示器件(Organic Light Emitting Device，OLED)不仅视角宽、对比度(contrast)优良，而且具有响应速度快的优点。由此，趋势是有机发光显示器件(OLED)的使用领域在逐渐扩大。

这种有机发光显示器件(OLED)的各电极和包括发光层的中间层可通过各种方法形成，而其中一个方法就是沉积(deposition)法。

对于中小型有机发光显示器件(OLED)产品而言，制造高分辨率有机发光显示器件(OLED)最大难关在于有机发光显示器件(OLED)制造工艺中生成RGB(红绿蓝)像素的核心即沉积(deposition)工艺。将具有与所要在基板上形成的薄膜等图案相同的图案的精细金属掩模(Fine Metal Mask，以下称为‘掩模’)对准并沉积薄膜的原材料而形成所期望的图案的薄膜。这种沉积工艺采用如下方法：在位于腔室(chamber)下端的沉积源加热有机物，使所加热的有机物升华并通过位于上部的掩模而沉积在TFT玻璃上。

在沉积工艺中将掩模与TFT玻璃以防止出现间隔开的部分的方式粘贴而进行沉积。这是由于在产生间隔的情况下因阴影效应而产生沉积缺陷之故。为了进行正确的沉积，厚度为10μm-30μm的掩模应通过绷紧地张拉掩模而成为保持了弹力的状态以与TFT玻璃保持平整度。为了保持掩模绷紧，在掩模的边缘进一步配制用于拉伸的翼片并以能够施加拉力的夹子夹住翼片部分后进行拉伸。将掩模的各孔以与所要在基板上形成的薄膜等图案一致的方式对准之后，将掩模的与边缘重叠的部分焊接到框架上而制作掩模框架。

在有源矩阵有机发光显示器件(Active Matrix OLED，AMOLED)面板的情况下，大小已到大批量生产用的第六代半，但第七代、第八代等大面积化将不可避免。这是由于只有实现这种大面积化才能通过多面取制作而同时制造大型有源矩阵有机发光显示器件面板之故。

另外，越是趋于高分辨率就越需要精细的图案化作业。为了进行精细的图案化作业，掩模内的孔的大小和孔的间距须减小。TFT玻璃与掩模之间的配置精密度也要精确。进而，掩模的厚度也要变薄。从而掩模的制作变得更加困难，成品率也急剧下降。另外，若TFT玻璃被大面积化，则用于图案形成的蚀刻误差变大，且由于自重而掩模中央部下垂的现象也变得严重。

图1a是示出了根据现有技术的拉伸的条形掩模的示意图。

迄今为止，由于不能以一张为单位制造掩模，因此将多个掩模1a制成条(stick)状并粘贴在框架上而使用了条形掩模型掩模组件。条形掩模1由多个掩模1a和拉伸所需的翼片构成。

随着高分辨率大面积化，条形掩模1的宽度和长度也在增加，由此构成条形掩模1的掩模1a的个数和各个掩模大小也在增加。条形掩模1也要制成高分辨率大面积，但由于难以确保蚀刻均匀性，因而在制作上存在困难。另外，在为了将按照设计图制作的条形掩模1固定成绷紧的状态而施加拉力的情况下，存在条形掩模1变形或掩模表面起皱等问题。

另外，用夹子夹住拉伸的条形掩模1的翼片以将按照设计图制作的条形掩模1固定成绷紧的状态，而在该情况下拉伸时发生问题。

图1b是示出了根据现有技术的拉伸的条形掩模1的变形状态的示意图。