[发明专利]一种紫激光光聚合平版印刷版前体

说明书

本发明公开了一种紫激光光聚合平版印刷版前体，它包括基底、设置在基底上的光聚合可成像层和设置在光聚合可成像层上的水溶性涂覆层，所述光聚合可成像层包括改性纳米二氧化硅。本发明由于采用上述改性纳米二氧化硅，使版材的耐磨性能得到大幅提高，从而提供了一种更好的高耐印率的光聚合CTP版材，降低了长印程作业时版材的消耗量，从而降低了成本，并提高了工作效率。

技术领域

本发明属于平版印刷版技术领域，具体涉及一种紫激光光聚合平版印刷版前体。

背景技术

近年来随着计算机和半导体激光技术的发展，感光性高分子材料作为激光成像材料被广泛地研究和应用。平版印刷技术已从传统的激光照排胶片拷贝PS版技术全面走向计算机直接制版技术（简称CTP技术），CTP版材也逐渐普及。CTP版材种类很多，比较普及的包括银盐扩散CTP版材、UV-CTP版、光聚合CTP版材、热敏CTP版材等。

所谓的光聚合是指在光的作用下，使单体发生聚合的方法。光引发聚合分直接光引发聚合和光敏聚合两种。前者，在光的作用下，光引发剂在激发态生成活性种子（自由基或阳离子），引发单体聚合；后者光敏剂首先吸收光，分子从基态跃迁至激发态，通过能量转移或电子转移使引发剂分解产生自由基，引发可成像层中的活性物质（含双键化合物）发生聚合反应。因而可根据光敏剂的吸收光谱，实现所需的感光范围例如红外光830nm、绿光532nm、蓝光488nm以及兰紫光405nm。

紫激光CTP版材经405nm紫激光曝光，曝光区域的可成像层发生聚合反应而固化，在显影液中有溶解变为不溶。未曝光区域经显影加工后被除去，形成印版空白区，曝光区域固化保留下来，形成印版图像区。其制版过程如下：

曝光→预热→水洗→显影→水洗→上胶→印版

在常规或“湿法”平版印刷中，吸油墨区域（称为图像区）在亲水性表面上生成。 当所述表面用水润湿并施加油墨时，所述亲水性区域保留水并排斥油墨，而吸油墨区域接受 油墨并排斥水。油墨被转移到在其上将复制图像的材料表面上。例如，所述油墨可以首先被转移到中间橡皮布（intermediate blanket）上，所述橡皮布反过来被用来将油墨转移到在其上将复制图像的材料表面上。

普通耐磨性能的印刷版前体不能够较好的满足长印程用户的使用需求，使用者往往需要两套或以上的版材去完成印品的印刷，造成版材使用量的增加，随之也增加了制版过程中的各种消耗，增加成本的同时，也降低了工作效率。

发明内容

本发明的目的就在于解决现有技术中存在的上述技术问题，提供一种紫激光光聚合平版印刷版前体及其制备方法，可使版材拥有较高的耐印率，减少长印程用户版材的使用量，从而节省成本和提高工作效率。

本发明的目的是以下述方式实现的：

一种紫激光光聚合平版印刷版前体，它包括基底、设置在基底上的光聚合可成像层和设置在光聚合可成像层上的水溶性涂覆层，所述光聚合可成像层包括改性纳米二氧化硅。

所述改性纳米二氧化硅为小分子改性纳米二氧化硅。

所述小分子改性纳米二氧化硅为硅烷偶联剂、环氧氯丙烷、甲苯二异氰酸酯、甲基丙烯酸异氰酸乙酯，双酚型缩水甘油醚、甲基丙烯酸缩水甘油酯中的任意一种。

所述硅烷偶联剂的结构式为RSiX₃，其中X为水解基团，R为带有功能性基团的有机链段。

所述改性纳米二氧化硅为大分子聚合物改性纳米二氧化硅。

所述大分子聚合物改性纳米二氧化硅中的大分子聚合物为聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨脂、聚乳酸、聚甲基丙烯酸缩水甘油酯、聚苯胺、聚酰胺中的任意一种。

所述改性纳米二氧化硅的粒径为5-100nm，优选为10-70nm。