[发明专利]一种紫激光光聚合平版印刷版前体在审
| 申请号： | 201811545389.2 | 申请日： | 2018-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN111324014A | 公开（公告）日： | 2020-06-23 |
| 发明（设计）人： | 李乐;高峰;李旭东;王泳;郭伟锋;孙伟涛;吴丹;杨争光;姜香宇 | 申请（专利权）人： | 乐凯华光印刷科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075;G03F7/11 |
| 代理公司： | 郑州中原专利事务所有限公司 41109 | 代理人： | 霍彦伟;王文文 |
| 地址： | 473003 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 激光 聚合 平版印刷 版前体 | ||
1.一种紫激光光聚合平版印刷版前体，其特征在于：它包括基底、设置在基底上的光聚合可成像层和设置在光聚合可成像层上的水溶性涂覆层，所述光聚合可成像层包括改性纳米二氧化硅。
2.根据权利要求1所述的紫激光光聚合平版印刷版前体，其特征在于：所述改性纳米二氧化硅为小分子改性纳米二氧化硅。
3.根据权利要求2所述的紫激光光聚合平版印刷版前体，其特征在于：所述小分子改性纳米二氧化硅为硅烷偶联剂、环氧氯丙烷、甲苯二异氰酸酯、甲基丙烯酸异氰酸乙酯，双酚型缩水甘油醚、甲基丙烯酸缩水甘油酯中的任意一种。
4.根据权利要求3所述的紫激光光聚合平版印刷版前体，其特征在于：所述硅烷偶联剂的结构式为RSiX3，其中X为水解基团，R为带有功能性基团的有机链段。
5.根据权利要求1所述的紫激光光聚合平版印刷版前体，其特征在于：所述改性纳米二氧化硅为大分子聚合物改性纳米二氧化硅。
6.根据权利要求5所述的紫激光光聚合平版印刷版前体，其特征在于：所述大分子聚合物改性纳米二氧化硅中的大分子聚合物为聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨脂、聚乳酸、聚甲基丙烯酸缩水甘油酯、聚苯胺、聚酰胺中的任意一种。
7.根据权利要求1所述的紫激光光聚合平版印刷版前体，其特征在于：所述改性纳米二氧化硅的粒径为5-100nm。
8.根据权利要求1所述的紫激光光聚合平版印刷版前体，其特征在于：所述改性纳米二氧化硅占光聚合可成像层总重量的1-15%。
9.根据权利要求1所述的紫激光光聚合平版印刷版前体，其特征在于：所述光聚合可成像层包含改性纳米二氧化硅、聚合物粘合剂、可自由基聚合的组分、能够在暴露于成像辐射后生成自由基的引发剂组合物以及辐射吸收化合物。
10.根据权利要求1所述的紫激光光聚合平版印刷版前体，其特征在于：所述光聚合可成像层的厚度为0.2-3μm。
11.根据权利要求1所述的紫激光光聚合平版印刷版前体，其特征在于：所述水溶性涂覆层的厚度为0.1-2μm。
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