[发明专利]一种横向元器件制样研磨方法

权利要求书

1.一种横向元器件制样研磨的方法，其特征在于，采用横向制样并进行横向研磨，在样品的宽度和高度两个方面同时优化效率,包括步骤如下：

步骤一、根据元器件的高度首先确定样品高度，并在制样前于模具内侧标记第一高度即元器件底面高度，以及第二高度即样品的上表面高度，确保元器件位于样品高度上的中心；

步骤二、按要求配置环氧树脂，并将环氧树脂加至模具内的第一高度处；

步骤三、待环氧树脂固化后，将元器件横向置于其表面的正中心处；

步骤四、再次将环氧树脂加至第二高度，此时元器件位于样品高度上中心；

步骤五、固化后完成制样；

步骤六、使用粗砂纸进行样品横向粗磨，直至元器件基板出现；

步骤七、精磨；

步骤八、抛光。

2.如权利要求1所述的一种横向元器件制样研磨的方法，其特征在于，所述步骤七中，使用细砂纸进行精磨，直至形貌达到最佳观测效果。

3.如权利要求1所述的一种横向元器件制样研磨的方法，其特征在于，所述步骤八中，用抛光液及相匹配的抛光布抛光，直至形貌达到最佳观测效果。