[发明专利]一种计算全息记录光栅制备方法

说明书

本发明公开了计算全息记录光栅制备方法，涉及全息识别技术领域，步骤1：将一涂有感光材料的参考全息干板固定在主全息干板待拼接的两个部分之间，用两对称入射的相干平行光对感光材料进行第一次曝光；步骤2：随即进行第一次显影；步骤3：用单束平行光以一定的角度入射进行第二次曝光，所说的单束平行光与第一次曝光所用的两相干平行光处在记录材料的同一入射面；步骤4：随即进行第二次显影，即得具有锯齿槽形的闪耀全息光栅。本发明不仅对制备材料没有特殊要求，而且不需要增加额外的制备设备和特殊元件，因而简化了闪耀全息光栅的制备过程，提高了制备速度，且降低了制备成本。

技术领域

本发明涉及全息元件制备技术领域，尤其是一种计算全息记录光栅制备方法。

背景技术

目前，在激光约束核聚变系统中，对一维衍射光栅线条的等距和平直性精度要求极高。全息曝光拼接可以实现大面积的光栅制作，由此获得的光栅稳定性很好，但是拼接过程难度较大，在拼接过程中需要解决条纹的对准问题，即第二块光栅的条纹与第一块光栅的条纹之间必须平行，并且它们之间的间隔必须是光栅周期的整数倍，显影后，原先的正弦槽形即被填充成锯齿形。因而，如何通过拼接方法来实现大面积全息光栅的制备，是目前人们研究的一个重点。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术中的不足，本发明提出的一种计算全息记录光栅制备方法。

本发明的技术方案是这样实现的：

一种计算全息记录光栅制备方法，包括以下步骤：

包括以下步骤：

步骤1：将一涂有感光材料的参考全息干板固定在主全息干板待拼接的两个部分之间，用两对称入射的相干平行光对感光材料进行第一次曝光；

步骤2：随即进行第一次显影；

步骤3：用单束平行光以一定的角度入射进行第二次曝光，所说的单束平行光与第一次曝光所用的两相干平行光处在记录材料的同一入射面；

步骤4：随即进行第二次显影，即得具有锯齿槽形的闪耀全息光栅。

作为优选，所述步骤1中，入射角θ由下式确定：2sinθ＝λ/d，其中，λ为记录光源的激光波长，d为光栅周期，所说的记录材料为可形成浮雕状干涉条纹的记录干版，记录光源为记录干版敏感的激光波长。

作为优选，所述步骤3中，将主全息干板的第一部分和参考光栅放置于记录光场中，使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息。

作为优选，所述对形成记录光场的两路光束中的一路的反射镜进行位置调节是指，扩束前的一个反射镜设置在微位移器件上，通过微位移器件改变反射镜的位置，以改变光程，并实现对记录光场条纹位相的改变。

本发明通过提供的计算全息记录光栅制备方法，其有益效果在于：不仅对制备材料没有特殊要求，而且不需要增加额外的制备设备和特殊元件，因而简化了闪耀全息光栅的制备过程，提高了制备速度，且降低了制备成本。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本实施例的计算全息记录光栅制备方法，包括以下步骤：

包括以下步骤：