[发明专利]一种显示基板、其制作方法、显示面板及显示装置在审
| 申请号： | 201811396525.6 | 申请日： | 2018-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN109546000A | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 樊燕;樊星;高昊;温向敏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/52 | 分类号： | H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阴极层 衬底基板 辅助电极 显示基板 并联接触 透明电极 显示面板 显示装置 像素区域 辅助电 阴极 有机功能层 等效电阻 电阻压降 依次层叠 阳极层 并联 出射 电阻 制作 背离 | ||
1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底基板，所述衬底基板具有多个像素区域，每一所述像素区域包括位于所述衬底基板之上依次层叠设置的阳极层、有机功能层和阴极层；还包括位于所述阴极层背离所述衬底基板一侧且与所述阴极层并联接触的辅助电极，所述辅助电极为透明电极。
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括位于所述阴极层与所述辅助电极之间、且与所述像素区域一一对应的透明介质层；其中所述透明介质层在所述衬底基板的正投影覆盖所述像素区域在所述衬底基板的正投影。
3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述透明介质层的材料为有机绝缘材料或无机绝缘材料。
4.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述透明介质层的折射率为1.0-2.5。
5.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述透明介质层的厚度为30nm-300nm。
6.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阴极层的材料为半透明的金属材料，所述辅助电极的材料包括氧化铟锡、铟锌氧化物其中之一或组合。
7.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的显示基板。
8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求7所述的显示面板。
9.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底基板的像素区域依次形成阳极层、有机功能层和阴极层；
在形成有所述阴极层的衬底基板上形成与所述阴极层并联接触的辅助电极；其中所述辅助电极为透明电极。
10.如权利要求9所述的制作方法，其特征在于，在形成所述阴极层之后，形成所述辅助电极之前，还包括：
在形成有所述阴极层的衬底基板上形成与所述像素区域一一对应的透明介质层；其中所述透明介质层在所述衬底基板的正投影覆盖所述像素区域在所述衬底基板的正投影。
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