[发明专利]热固化型剥离涂覆剂和剥离膜

说明书

[技术问题]本发明提供了能够形成涂膜外观优异且剥离性能和耐溶剂性优异的固化膜的新型热固化型剥离涂覆剂。[技术手段]含有三聚氰胺树脂(A)、碳原子数12‑24的脂肪族羟基羧酸(b)的自缩合物(B)和酸催化剂(C)的热固化型剥离涂覆剂。

技术领域

本发明涉及热固化型剥离涂覆剂(剥離コーティング剤)和剥离膜(剥離フィルム)。

背景技术

以聚对苯二甲酸乙二醇酯膜为代表的双轴拉伸聚酯膜的透明性、尺寸稳定性、机械特性、耐化学品性等性能优异，已被利用于各种工业领域。近年来，其已被广泛用于各种光学用膜，并被用于LCD部件的棱镜片、光扩散片、反射板、触摸面板等基膜和防反射用基膜等各种用途。此外，作为剥离膜的基膜使用的情况也较多，用于制造粘合片、粘合胶带、触摸面板用保护膜、陶瓷生片而被广泛用于电子材料用途。

以往的剥离膜主要是在聚酯膜表面上形成了由具有剥离性的硅酮树脂类剥离剂的树脂涂膜形成的剥离层的剥离膜。然而，使用硅酮类剥离剂形成该树脂涂膜时，指出由于来自硅酮类剥离剂的低分子量硅酮化合物从该树脂涂膜转移到粘合片的粘合剂层表面，存在粘合剂层的粘合力降低的可能性以及通过该粘合片粘接的电子部件发生故障的可能性。此外，在电容器用陶瓷生片和印刷基板的制造工序、各种电子部件的密封工序等中使用的剥离膜中，也同样指出因上述硅酮化合物向电子部件表面转移而产生不良状况。

为了抑制由上述硅酮化合物引起的污染，提议了非硅酮类剥离剂(参见专利文献1和专利文献2)。在专利文献1和专利文献2中公开了含有使聚乙烯醇或乙烯-乙烯醇共聚物等与长链烷基异氰酸酯反应而成的长链烷基侧链型(ペンダント型)聚合物的非硅酮类剥离剂。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000-119608号公报

专利文献2：日本特开平5-295332号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

然而，就上述专利文献1和专利文献2中公开的剥离剂而言，虽然由其形成的涂膜的剥离性能良好，但由于该涂膜没有交联，因此存在耐溶剂性低这样的技术问题。此外，由于上述剥离剂对各种溶剂的溶解性低，因此由该剥离剂形成的涂膜容易出现白浊或凹凸等外观上的不良情况，还存在涂膜外观差这样的技术问题。

本发明的目的在于提供能够形成涂膜外观优异且剥离性能和耐溶剂性优异的固化膜的新型热固化型剥离涂覆剂。

解决技术问题的技术手段

本发明人深入研究的结果发现，通过在规定的脂肪族羟基羧酸的自缩合物(脂肪族ヒドロキシカルボン酸の自己縮合物)和规定的三聚氰胺树脂中组合了酸催化剂的组合物，能够解决上述技术问题，从而完成了本发明。即，本发明涉及以下热固化型剥离涂覆剂和剥离膜。

1.热固化型剥离涂覆剂，所述热固化型剥离涂覆剂含有三聚氰胺树脂(A)、碳原子数12-24的脂肪族羟基羧酸(b)的自缩合物(B)和酸催化剂(C)。

2.如上述项1所述的热固化型剥离涂覆剂，其中，(A)成分含有来自甲基化三聚氰胺和/或丁基化三聚氰胺的结构单元。

3.如上述项1或2所述的热固化型剥离涂覆剂，其中，(B)成分为碳原子数18的脂肪族羟基羧酸的自缩合物。

4.如上述项1-3中任一项所述的热固化型剥离涂覆剂，其中，相对于所述剥离涂覆剂的总固体成分100重量％，(B)成分的含量为1-50重量％。

5.如上述项1-4中任一项所述的热固化型剥离涂覆剂，其中，(C)成分为有机磺酸和/或有机磷酸。

6.如上述项1-5中任一项所述的热固化型剥离涂覆剂，其中，相对于所述剥离涂覆剂的总固体成分100重量％，(C)成分的含量为1-10重量％。