[发明专利]透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试方法、装置及系统

说明书

本发明实施例公开了一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统、方法、装置、设备及计算机可读存储介质。其中，待测光学设备的电子系统放置于金属箱体内，金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，光学玻璃上设置透光屏蔽薄膜；电磁屏蔽效能计算装置根据电磁波信号采集装置采集的从金属箱体向外出射的第一电磁波强度值和第二电磁波强度值计算透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值，第一电磁波强度值为设置透光屏蔽薄膜的金属箱体出射的电磁波信号强度值，第二电磁波强度值为没有设置透光屏蔽薄膜的金属箱体出射的电磁波信号强度值。本申请实现了光学成像类设备在研制阶段前期准确选择匹配的透光屏蔽薄膜，降低光学成像类设备的研制成本。

技术领域

本发明实施例涉及电磁兼容技术领域，特别是涉及一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统、方法、装置、设备及计算机可读存储介质。

背景技术

随着光学技术的发展，各类光学成像类设备越来越多投入至日常生活中。能量较高的电磁辐射不仅对处于电磁辐射环境中的电子设备产生干扰甚至毁伤，还对人体有影响，故在光学成像类设备进入市场之前，需要进行电磁辐射发射的标准化测试，只有其电磁辐射发射值在规定的标准范围之内，才可顺利交付、投入市场运营。

对于光学成像类设备，由于光学窗具有电磁透明性，电磁波能够基本无阻碍的传输至设备内部，造成设备的电磁辐射值超标，而透光屏蔽薄膜成为光学成像类设备的有效电磁防护手段。

相关技术中，一般均是在光学类设备制造完成后，将透光屏蔽薄膜施加(例如通过溅射、蒸镀等方式)在光学窗口上，但是当选择的透光屏蔽薄膜不合适时，针对一些特定的镀膜工艺，镀膜后的器件(例如镜头)便无法在使用，增加整个光学成像类设备的成本代价。

鉴于此，如何在光学成像类设备研制阶段前期，实现透光屏蔽薄膜的选型，是本领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

本公开实施例提供了一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统、方法、装置、设备及计算机可读存储介质，实现了光学成像类设备在研制阶段前期准确选择匹配的透光屏蔽薄膜，降低光学成像类设备的研制成本。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供以下技术方案：

本发明实施例一方面提供了一种透光屏蔽薄膜的屏蔽效能预测试系统，包括金属箱体、电磁波信号采集装置及电磁屏蔽效能计算装置；

处于研制阶段的待测光学设备的电子系统放置于所述金属箱体内，所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构，所述光学玻璃上设置透光屏蔽薄膜；所述透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积，以覆盖所述光学玻璃；

所述电磁波信号采集装置用于采集从所述金属箱体向外出射的电磁波信号，并将采集的电磁波信号发送至所述电磁屏蔽效能计算装置中；

所述电磁屏蔽效能计算装置用于根据接收到的第一电磁波信号强度值和第二电磁波信号强度值计算所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值，所述第一电磁波强度值为设置所述透光屏蔽薄膜的所述金属箱体出射的电磁波信号强度值，所述第二电磁波强度值为没有设置所述透光屏蔽薄膜的所述金属箱体出射的电磁波信号强度值。

可选的，所述电磁波信号采集装置包括接收天线和电磁波信号测量接收机；

所述接收天线用于接收从所述金属箱体向外出射的电磁波信号；

所述电磁波信号测量接收机用于采集所述接收天线接收到的电磁波信号。

可选的，所述电磁屏蔽效能计算装置用于根据下述公式计算所述透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值：

SE＝E₀/E₁；