[发明专利]一种基于原位生成C-S-H强化再生集料的装置与方法

权利要求书

1.一种原位生成C-S-H强化再生集料的方法，其特征在于：

该方法使用一种基于原位生成C-S-H强化再生集料的装置，包括第一仓室、第二仓室、第三仓室和鼓风干燥装置，所述第一仓室、第二仓室和第三仓室均为密封腔室；

所述第三仓室的顶部设置有喷淋结构，第一仓室和第二仓室均通过泵与所述喷淋结构连接，喷淋结构的下端设置有装载箱体，所述装载箱体的壁的四周均为镂空设置，镂空的孔径小于再生集料的粒径，装载箱体的底部与第三仓室的底部之间留有一定间隙，第三仓室的底部设置有至少一个排液口；

所述鼓风干燥装置与所述第三仓室的下端连接，第三仓室的上端设置有盖体；

包括如下步骤：

1)对再生集料进行筛分，剔除再生集料中的废弃颗粒物，并清除再生集料表面的污泥和剥落不完全的砂浆；

2)将清理后的再生集料装于装载箱体中，并将装载箱体放置于第三仓室中；

3)开启鼓风干燥装置，将第三仓室中的再生集料烘干后关闭鼓风干燥装置，然后开启真空负压装置，将第三仓室抽真空；

4)将无水乙醇、水和正硅酸乙酯的混合液输送至第三仓室的喷淋装置，并通过喷淋装置均匀喷洒在再生集料上，喷淋、浸泡设定时间后，将混合液排出，并开启鼓风干燥装置，将再生集料烘干；

5)开启真空负压装置，将第三仓室抽真空；

6)将氢氧化钙溶液输送至第三仓室的喷淋装置，并通过喷淋装置均匀喷洒在再生集料上，喷淋、浸泡设定时间后，将溶液排出，并开启鼓风干燥装置，将再生集料烘干；

其中，步骤4)中，无水乙醇、水和正硅酸乙酯的摩尔比为3.5-4.5:1:2.5-3.5，浸泡时间为10-20h；

步骤6)中，所述氢氧化钙溶液为饱和氢氧化钙溶液，浸泡设定时间为10-20h。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述喷淋结构上设置有若干个喷淋头，喷淋头的喷淋区域均匀覆盖装载箱体的横截面。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述鼓风干燥装置与第三仓室之间设置有两个气体分布器，两个气体分布器对称设置于第三仓室的两侧。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述基于原位生成C-S-H强化再生集料的装置还包括真空负压装置，真空负压装置与所述第三仓室连通。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述第三仓室与真空负压装置之间设置有两个连接点，两个连接点相对于第三仓室对称设置。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述排液口的数量为2个，分别与所述第一仓室和第二仓室连接。