[发明专利]一种绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂

说明书

本发明公开了一种绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂，按照重量份数计，由以下组分制得：亲油润湿分散剂1～5份、阴离子表面活性剂1～5份、非离子表面活性剂10～20份、络合剂1～3份、缓蚀剂0.1～1份、酸碱调节剂0.1～5份、增溶剂5～10份、去离子水50～70份。有效解决各成分的相容性的问题，在清洗RTV有机硅涂层时具有优良的润湿、分散作用，有效提高常温清洗能力。

技术领域

本发明涉及一种绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂，属于RTV涂层清洗技术领域。

背景技术

绝缘子采用RTV(室温硫化硅橡胶)有机硅涂层用于防污闪，越来越普遍应用于输电线路和输配电站的新建和升级改造实践中。绝缘子在使用过程中不断积存泥、砂等无机硅酸盐类尘埃颗粒，同时也有机动车尾气排放、煤炭燃烧、雾霾等带来的有机高分子污染物的吸附沉降。由于有机硅涂层的卓越的憎水性以及憎水迁移性，使用RTV有机硅涂层的绝缘子防污闪能力较无RTV涂层绝缘子的防污闪能力大大提高。但长期使用，特别是环境污染严重的情况下，无机颗粒污染物和有机高分子污染物仍然会逐渐积累到绝缘子RTV涂层表面，降低绝缘子的防污闪能力，最终导致绝缘子憎水性丧失，失去防污闪能力而停用或者复涂RTV以恢复防污闪能力。采用清洗剂进行化学清洗是延长绝缘子用RTV涂层的使用年限或者提高复涂RTV涂层附着力的必要手段。

RTV涂层独特的憎水迁移性，使沉积到RTV表面的污秽物在很短时间内就被小分子硅油和聚硅氧烷自由端所覆盖。而最终绝缘子RTV憎水性丧失时，污秽物在RTV涂层上的积累可看做一部分污秽物被包裹在小分子硅油和聚硅氧烷自由端所构成的“憎水膜”内，而在“憎水膜”外又沉积了一部分污秽物。传统的溶剂型清洗剂，成分包括大比例的有机溶剂结合表面活性剂，能对绝缘子RTV涂层表面的污秽物有效地清洗，但有机溶剂，如溶剂油、卤代烃等对环境的污染显著，同时易燃易爆也存在安全方面的风险，另外有机溶剂对RTV涂层的溶胀作用也影响复涂RTV的附着力。而一般的水基清洗剂成分，包括阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、络合剂、防锈剂、酸碱调节剂和其他助剂，对普通的机械油脂、无机硅酸盐类尘埃能起到较好的润湿清洗作用，但对于有机硅涂层表面的污秽物则很难润湿和清理。

为解决有机硅涂层表面的污秽物的清洗问题，水基清洗剂需要有疏水性更强的表面活性剂成分以及亲水性更强的表面活性剂的组合，但二者同时存在于同一清洗剂配方中，就需要解决其相容性问题，而普通的醇类增容剂并不能很好解决。

发明内容

本发明的目的是提供一种绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂，有效解决各成分的相容性的问题，在清洗RTV有机硅涂层时具有优良的润湿、分散作用，有效提高常温清洗能力。

为了实现上述目标，本发明采用如下的技术方案：

一种绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂，按照重量份数计，由以下组分制得：亲油润湿分散剂1～5份、阴离子表面活性剂1～5份、非离子表面活性剂10～20份、络合剂1～3份、缓蚀剂0.1～1份、酸碱调节剂0.1～5份、增溶剂5～10份、去离子水50～70份。

优选的，前述的绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂中，所述的亲油润湿分散剂为聚异丁烯丁二酰亚胺、聚异丁烯胺、聚醚胺中的一种。

优选的，前述的绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂中，所述的阴离子表面活性剂为十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磺酸钠中的一种。

优选的，前述的绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂中，所述的非离子表面活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、尼纳尔6501中的一种或几种的混合物。

优选的，前述的绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂中，所述的烷基酚聚氧乙烯醚为OP-7、OP-9、OP-10、OP-15中的一种。

优选的，前述的绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂中，所述的脂肪醇聚氧乙烯醚为AEO-7、AEO-9、O-20中的一种。