[发明专利]一种绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂

权利要求书

1.一种绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂，其特征在于，按照重量份数计，由以下组分制得：亲油润湿分散剂1～5份、阴离子表面活性剂1～5份、非离子表面活性剂10～20份、络合剂1～3份、缓蚀剂0.1～1份、酸碱调节剂0.1～5份、增溶剂5～10份、去离子水50～70份；所述的络合剂为乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、多聚磷酸钠、焦磷酸钠中的一种；所述的亲油润湿分散剂为聚异丁烯丁二酰亚胺、聚异丁烯胺、聚醚胺中的一种。

2.根据权利要求1所述的绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂，其特征在于，所述的阴离子表面活性剂为十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磺酸钠中的一种。

3.根据权利要求1所述的绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂，其特征在于，所述的非离子表面活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、尼纳尔6501中的一种或几种的混合物。

4.根据权利要求3所述的绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂，其特征在于，所述的烷基酚聚氧乙烯醚为OP-7、OP-9、OP-10、OP-15中的一种。

5.根据权利要求3所述的绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂，其特征在于，所述的脂肪醇聚氧乙烯醚为AEO-7、AEO-9、O-20中的一种。

6.根据权利要求1所述的绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂，其特征在于，所述的缓蚀剂为苯并三氮唑、草酸钠、亚硝酸钠、羧乙基两性咪唑啉、十七烯基胺乙基咪唑啉中的一种。

7.根据权利要求1所述的绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂，其特征在于，所述的酸碱调节剂为碳酸钠、碳酸氢钠、三乙醇胺中的一种。

8.根据权利要求1所述的绝缘子用RTV有机硅涂层水基清洗剂，其特征在于，所述的增溶剂为乙醇、异丙醇、乙二醇单丁醚中的一种或几种的混合物。